ANNEAL型真空退火炉

§ 产品简介：

      ANNEAL真空退火炉是英国MOORFIELD公司的一款桌面式高真空退火装置，最高温度为1000℃，真空度可达5×10-7mbar，并且可以精密控制退火的气氛，样品最大尺寸为6寸，是二维材料及薄膜器件退火的理想选择工具之一。

§  产品特性及主要参数：

  • 桌面型真空退火装置

  • 样品最大尺寸：6寸或者4寸圆片

  • 温度有两个方案可供选择：

   1）1000℃高温：加热材料为SIC涂层的石墨材料或者CCC材料，分辨率±1℃

   2）600℃高温：采用石英灯加热，兼容普通空气环境，价格便宜，分辨率±1℃

  • 高精度气体控制：在退火时可支持3通道气体控制： Ar,O2与N2，质量流速可控。

  • 极高分辨率压力全自动控制：低至0.1mbar，退火时压力的控制至关重要，尤其是二维材料，纳    米薄膜材料，压力控制的越精准越好。

  • 真空度低至<5 × 10-7 mbar

  • 操作简单

  • 可自定义退火程序并具有储存功能

  • 维护简单

  • 操作及其安全，有各种安全保护装置

  • 兼容超净间

                               退火炉结构图

                                 加热台外观图

§ 产品应用：

       • 纳米薄膜退火处理

       • 二维材料退火处理 

       • 金属材料，陶瓷材料等退回处理

§ 典型用户：

       • the University of Exeter(UK)

       • the University of Manchester(UK)

       • ICFO – The Institute of Photonic Sciences ( Spain)

       • the University of Cambridge and Nokia Research Centre