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共 29 台化学机械平坦CMP设备
CMP20化学机械抛光机

CMP20化学机械抛光机

  • CMP20
  • 暂无
参考报价 ¥18万 - 205万
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CMP化学机械抛光机

CMP化学机械抛光机

  • AP300
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CMP化学机械抛光机

CMP化学机械抛光机

  • AP200
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G&N MPS R400CV 晶圆研磨机/减薄机

G&N MPS R400CV 晶圆研磨机/减薄机

  • MPS R400CV
  • 暂无
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CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光机

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  • AIP300
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CTS AP200型CMP化学机械抛光机

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  • AP200
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晶背减薄机UltraPrep

晶背减薄机UltraPrep

  • UltraPrep
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CMP AP300化学机械抛光机

CMP AP300化学机械抛光机

  • AP300
  • 暂无
参考报价 ¥250万
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CMP/化学机械抛光机/CTS

CMP/化学机械抛光机/CTS

  • AP200
  • 暂无
参考报价 ¥250万
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CMP AP300/化学机械抛光机

CMP AP300/化学机械抛光机

  • AP300
  • 暂无
参考报价 ¥250万
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CMP化学机械抛光机

CMP化学机械抛光机

  • AP200
  • 暂无
参考报价 ¥250万
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CMP后清洗机

CMP后清洗机

  • GNP CLEANER-428L
  • 暂无
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半导体研磨抛光机

半导体研磨抛光机

  • customized-21
  • 暂无
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桌面型多场辅助化学机械抛光设备50

桌面型多场辅助化学机械抛光设备50

  • CMP-50
  • 暂无
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CMP抛光机

CMP抛光机

  • TMP-150A/200A
  • 暂无
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CMP后清洗机

CMP后清洗机

  • GNP CLEANER-812L
  • 暂无
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全自动CMP晶圆清洗一体机

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  • GNP GPC-300A
  • 暂无
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CMP抛光机

CMP抛光机

  • POLI-762
  • 暂无
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CMP抛光机

CMP抛光机

  • POLI-500
  • 暂无
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半自动CMP抛光机

半自动CMP抛光机

  • TMP-200S/300S
  • 暂无
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CMP

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  • GNP POLI系列
  • 暂无
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化学机械抛光机CMP

化学机械抛光机CMP

  • customized-17
  • 暂无
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cmp抛光机

cmp抛光机

  • POLI-400L
  • 暂无
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CMP

CMP

  • GNP POLI-PCB系列
  • 暂无
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CMP

CMP

  • GNP POLI-610
  • 暂无
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CMP后清洗机

CMP后清洗机

  • GNP CEANER-412S
  • 暂无
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CMP后清洗机

CMP后清洗机

  • GNP CLEANER-412R
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Struers便携式金相研磨抛光机TransPol-5

Struers便携式金相研磨抛光机TransPol-5

  • TransPol-5
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纽迈分析cmp研磨液分散性分析仪PQ系列

纽迈分析cmp研磨液分散性分析仪PQ系列

  • PQ系列
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分类小贴士

化学机械抛光机（CMP）是一种利用化学反应和机械摩擦相结合的技术，对表面进行微米级的平整化处理。它广泛应用于半导体、显示器、磁头、光纤通信、光学镜片等领域，是制造这些高精度产品的重要工艺之一。 CMP主要由工作台、研磨头、衬垫、清洗系统以及控制系统组成。在工作过程中，载着研磨粒子的化学抛光液被置于研磨头和衬垫接触处，通过机械运动将研磨头与工件表面压制在一起，使研磨粒子在化学抛光液的作用下与工件表面发生摩擦，从而实现对工件表面的抛光和平整化。 相较于传统机械抛光和化学抛光技术，CMP具有抛光均匀、加工速度快、加工精度高、表面质量好等优点，已经成为先进半导体工艺中不可或缺的重要技术之一。

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