看了湿法清洗设备的用户又看了
产品简介
CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统，主要用于晶圆或者方片的清洗，刻蚀，显影等应用，其中清洗部分具有化学清洗，兆声清洗，PVA刷洗，高压DI水冲洗，背部清洗等多种功能。
产品特色
圆形晶圆最大可达：300mm
方形衬底最大可达 9 x 9 inch
最多两个电动输送臂，每个最多 6 个管路
液体加热模块高达 60°C
用于去离子水的背面冲洗
集成三种不同化学品液供应系统
工艺室外的手动去离子水枪
工艺室自动去离子水冲洗可选
带有流孔的工艺室档板
技术数据
衬底尺寸: 最大可达：300mm (12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)
电机转速: 最大 3.000 rpm, 步进1 rpm
步进时间: 1 至 999.9 秒，步长 0.1 s
系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成
处理室材料: PP （可选 PVDF)
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 有
免费仪器保养: 6月1次
保内维修承诺: 免费维修更换零件
报修承诺: 48小时内响应
Osiris湿法清洗设备CHEMIXX 30的工作原理介绍
湿法清洗设备CHEMIXX 30的使用方法?
OsirisCHEMIXX 30多少钱一台?
湿法清洗设备CHEMIXX 30可以检测什么？
湿法清洗设备CHEMIXX 30使用的注意事项？
OsirisCHEMIXX 30的说明书有吗？
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OsirisCHEMIXX 30有现货吗？
