PHL膜厚测量椭偏仪 ME-210(-T)
PHL膜厚测量椭偏仪 ME-210(-T)

¥80万 - 100万

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Photonic Lattice

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ME-210(-T)

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亚洲

  • 金牌
  • 第6年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产地类别: 进口

以往的椭偏仪是单点测试,因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作,而且最小的测量分辨率就是激光光斑大小,也就是说,无法取得微小区域的膜厚分布数据。

ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片来克服上述两大问题的设备。


ME-210能做的就是:

  1. 能以快速取得最大12inch基板上的膜厚分布

  2. 能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布(设备最高分辨率为5.5um*5.5um

  3. 设备软件具有模拟功能,因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺

  4. 透明基板的膜厚测量


技术参数:

光源--typ,636nm,Class2

设备最高分辨率--5.5*5.5um

入射角--70°

测量再现性--膜厚0.1nm、折射率0.001

设备最块测量速度--5,000个点/min

载物台--标准φ8inch、选配φ12inch

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 1人

免费仪器保养:

保内维修承诺: 免费维护

报修承诺: 电话联系后尽快安排日程

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