仪器种类： 普通真空快速退火炉
产地类别： 进口
样品尺寸： 6
温度范围： RT~1000℃
最高升温速率： 80℃/s
降温速率： 0
退火温度准确性： ±0.5℃
退火温度均匀性： 10℃
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RTP-6经济型快速退火炉
RTP-6升温速率可达80℃/s。
RTP-6采用抛物线形的黄金反射面，可均匀热处理6英寸的圆晶。该系统可进行快速的热处理，适合热处理工艺的研究与开发。可用于半导体工艺中硅化物的形成以及半导体化合物的过程退火。
应用：
1. 离子注入后的活化退火
2. 沉积氧化膜的退火
3. 欧姆电极合金化
4. PZT，SBT和其它铁电薄膜的结晶退火
5. 硅化物及自对准硅化物的生成
6. 发光元件，半导体激光基板的热处理
7. 超浅结的生成
8. 铁电电容器沉积
9. 栅氧化膜的生
特点：
l 快速热处理
l 腔体采用水冷，可进行快速降温
l 真空置换气氛后，可采用流动气氛进行热处理
l 温度程序设置和外部信号输入可以通过脑轻松控制
l 加热过程的温度数据也可以显示在电脑上
l 石英保护板（可选）可以安装在腔室内以防止污染
l 配备了各种安全措施
l 九个独立的加热区可实现不同尺寸样品均匀的温度控制
组成：
1. 红外金面反射炉
2. 加热腔
3. 可编程温控器
4. 9个独立的加热区
5. 跨度变换单元
6. 气体管路系统
7. 热气排出系统
8. 炉体框架，开关板
9. 高温计（可选）
10. 水冷机（可选）
11. 真空泵（可选）
参数：
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 安装培训不限人数
免费仪器保养: 保修期内，1次/年
保内维修承诺: 非耗材保修期内免费更换
报修承诺: 24小时内反馈，72小时内提出解决方案
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