半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
激光直写光刻机
近日,东方晶源微电子科技(北京)有限公司(以下简称“东方晶源”)发布首款基于云端的EDA计算光刻平台——AeroHPO全流程协同优化系统,成为国产EDA和一体化良率解决方案“云”部署先行者。该系统沿用东方晶源自主研发、全球率先工程应用的“全芯片反向光刻掩模优化(ILT)”技术,同时依托于公有云平台,可为客户提供28nm及以下技术节点的制程建模、基于ILT的掩模优化、设计规则与掩模规则检查(DRC/MRC)、光源掩模联合优化(IRO)、严格物理光刻仿真、DPT 版图拆分及光刻性能检查(LRC)等全产品线功能与服务。AeroHPO是东方晶源现有基于私有计算集群的计算光刻解决方案的有力补充,该系统在易获得性和灵活的收费方式等方面具有显著优势,可为高校和科研院所等提供便捷的EDA和计算光刻教学与科研平台,同时也为中小型芯片设计与制造企业提供更为经济和灵活的解决方案。
东方晶源的AeroHPO全流程协同优化系统,不仅解决了掩模优化设计问题,而且具有上游EDA工具以及下游缺陷分析和良率控制系统的可扩展性和兼容性,提供了从芯片设计到制造一体化的DTCO综合平台。截至目前,该系统已经在合作伙伴北京超级云、华为云和腾讯云等公有云上完成测试。AeroHPO的上线,将进一步完善国产EDA解决方案,加速国产替代,并实现超越。
[来源:东方晶源]
2022.04.13
2021.08.26
芯片制造设备商前往印度建立基地,东京电子、应用材料等将参加新德里半导体展
2024.06.14
拟募资7.37亿元!掩膜版生产公司路维光电投建半导体掩膜版等项目
2024.06.13
重磅!华海清科首台 12 英寸封装减薄贴膜一体机交付国内头部封测企业
2024.06.13
中国科学家重大突破:打破硅基“封印”,助推半导体三维集成发展
2024.06.13
版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功,积分获取达到限制
投票成功~
投票失败了~