2020-05-27 13:39
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PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备
型号: PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备
产地:
品牌:
¥ 100万 - 200万
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原子层沉积(ALD)是一种先进的薄膜涂覆方法,可用于制造超薄,高度均匀和共形的材料层,以用于多种应用。
EVG810LT是一款单腔室、半自动的设备,适用于硅片直接键合的低温活化,如SOI,应变硅,GeOI,化合物半导体和MEMS器件等应用。EVG810LT工艺腔室允许使用非原位工艺,即硅片可在腔室内分别片片激活,之后在激活腔室外硅片进行键合。
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