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核心参数
曝光模式： 接近式
产地类别： 进口
分辨率： 0.5um以上
光源： 汞灯
光源波长： 紫外光
光强均匀性： ±0.4%
曝光面积： 2-6 英寸(standard)
EVG®610 Mask Alignment System
EVG®610 掩模对准系统
EVG®610是一款紧凑的多功能研发系统，可处理200mm以下的小基板片和晶圆。
技术数据
EVG610支持多种标准光刻工艺，例如真空，硬，软和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还提供其他功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。 EVG610提供快速的处理和重新安装工具，可在不到几分钟的时间内转换用户需求。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
特征
晶圆/基片尺寸从zui大200 mm / 8'’ 顶侧和底侧对齐能力
高精度对准台 自动楔形补偿序列
电动和配方控制的曝光间隙 支持zui新的UV-LED技术
最小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导
远程技术支持：
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
敏捷处理和转换重组；台式或带防震花岗岩台的单机版
附加功能：
键对齐 红外对准 纳米压印光刻（NIL）
技术数据
对齐方式：上侧对齐：≤±0.5 μm 底面要求：≤±2,0 μm
红外校准：≤±2,0 μm /基板材料，具体取决于
键对准：≤±2,0 μm NIL对准：≤±2,0 μm
曝光源：汞光源/紫外线LED光源 楔形补偿 全自动-SW控制
晶圆直径（基板尺寸）：高达100/150/200毫米
曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式
曝光选项：间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露
先进的对齐功能：手动对准/原位对准验证 手动交叉校正 大间隙对齐
系统控制：作业系统：Windows
文件共享和备份解决方案/无限制配方和参数；多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR；实时远程访问，诊断和故障排除；
纳米压印光刻技术，紫外线零。
EVG激光直写光刻机EVG®610 Mask Alignment System的工作原理介绍
激光直写光刻机EVG®610 Mask Alignment System的使用方法?
EVGEVG®610 Mask Alignment System多少钱一台?
激光直写光刻机EVG®610 Mask Alignment System可以检测什么？
激光直写光刻机EVG®610 Mask Alignment System使用的注意事项？
EVGEVG®610 Mask Alignment System的说明书有吗？
EVG激光直写光刻机EVG®610 Mask Alignment System的操作规程有吗？
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EVGEVG®610 Mask Alignment System有现货吗？
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
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