产地类别: 国产
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仪器采用消光法椭偏测量原理,易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
采用水平放置样品的方式,方便样品的取放。
集成一体化设计,简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连,方便使用。
采用激光作为探测光波,测量波长准确度高。
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率;块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。
仪器软件可自动完成样品测量,并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
软件中设置了用户使用权限(包括:管理员、操作者等模式),便于仪器管理和使用。
利用本仪器,可通过适当扩展,完成多项偏振测量实验,如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
项目
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技术指标
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仪器型号
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EX2
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测量方式
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自动测量
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样品放置方式
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水平放置
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光源
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He-Ne激光器,波长632.8nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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膜厚范围
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透明薄膜:1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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折射率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°,精度0.05°
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偏振器方位角读数范围
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0-360°
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偏振器步进角
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0.014°
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样品方位调整
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Z轴高度调节:16mm
二维俯仰调节:±4°
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允许样品尺寸
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样品直径可达Φ160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
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最大外形尺寸
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约400*400*250mm
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仪器重量(净重)
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约20Kg
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选配件
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* 半导体激光器
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用户单位 | 采购时间 |
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北京大学 | 2013-06-30 |
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