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离子溅射仪（Ion Beam Sputtering，IBS）是一种通过在靶材表面轰击离子来生产薄膜的方法。它可以用于制备具有高质量的光学、电学和磁学性能的多层膜。 离子溅射过程中，高能离子被加速并斜向地撞击靶材表面，靶材表面的原子通过能量交换被抛出，并在真空中沉积在衬底上，形成具有精确厚度和组成的薄膜。 相比于其他薄膜制备方法，离子溅射仪具有以下优点：可以制备大面积、均匀厚度、高结晶质量的薄膜，在杂质含量、氢等不稳定元素的控制方面具有优势，可以制备非常复杂的多层结构，也是目前最常用的制备光学膜的方法之一。
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