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35 台离子溅射仪 3I规则
裕隆时代LJ-16离子溅射仪

裕隆时代LJ-16离子溅射仪

  • LJ-16
  • 暂无
参考报价 ¥1 - 5万
日立 离子溅射仪 镀金机

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  • MC1000
  • 暂无
参考报价 ¥10万 - 30万
热蒸发镀膜仪

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  • SD-980
  • 暂无
参考报价 ¥4万
TOPSO Mini双靶溅镀仪MSC200

TOPSO Mini双靶溅镀仪MSC200

  • Tengu®MSC200系列
  • 暂无
参考报价 ¥20万
CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪

CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪

  • CCU-010 HV_SP-010
  • 暂无
参考报价 面议

35

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分类小贴士

离子溅射仪(Ion Beam Sputtering,IBS)是一种通过在靶材表面轰击离子来生产薄膜的方法。它可以用于制备具有高质量的光学、电学和磁学性能的多层膜。 离子溅射过程中,高能离子被加速并斜向地撞击靶材表面,靶材表面的原子通过能量交换被抛出,并在真空中沉积在衬底上,形成具有精确厚度和组成的薄膜。 相比于其他薄膜制备方法,离子溅射仪具有以下优点:可以制备大面积、均匀厚度、高结晶质量的薄膜,在杂质含量、氢等不稳定元素的控制方面具有优势,可以制备非常复杂的多层结构,也是目前最常用的制备光学膜的方法之一。

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