祺跃科技4英寸原子层积系统MINI-ALD4
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祺跃科技

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MINI-ALD4

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中国大陆

  • 银牌
  • 第4年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产地类别: 国产

衬底尺寸: ≤4英寸晶圆

  • 抽速: 9L/s
  • 腔室真空: ≤5Pa
  • 臭氧发生器: 臭氧浓度<5180g O^3/Nm³
  • 等离子体: 即时启辉,具有射频自动匹配功能(选装)
  • 衬底温度: 室温~300℃,控温精度:±0.1℃
  • 管路加热温度: 室温~175℃
  • 前驱体瓶加热温度: 室温~175℃
  • 沉积模式: 快速模式、高纵深比模式
  • 镀膜均匀性: 均匀性优于±1%

 公司介绍:

    浙江祺跃科技有限公司主要从事纳米分辨可视化系列仪器的设计、研发、生产和销售,以及基于扫描电子显微镜的材料结构与性能一体化原位表征解决方案输出、材料检测等服务。

 

       公司为国家级高新技术企业、浙江省”院士工作站”优秀单位、国家科技型中小企业、浙江省级研发中心,承担杭州市领军型创新团队项目等

 

  公司秉承发展先进仪器,服务高端制造的理念,致力于研制具有自主知识产权的可视化仪器,旨在将材料性能的优化建立在显微结构调控的科学基础上,同时引入材料大数据、AI等智能技术,为高端制造赋能,为前沿科技研究提供先进仪器。  

 

 

产品功能介绍:

       采用内外双腔结构设计,优化的辐射加热系统,温度均匀性高;气流优化设计结合前驱体瓶加热,管路加热,不仅可以实现平板基体上膜厚的均匀性沉积,也适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现微纳深孔内部的均匀沉积。可用于半导体器,MEMS器件先进电池材料,催化材料研究。


 

产品的优势与特点

 

1. 产品集成度高,自动化控制;

2. 可集成等离子体模块、粉末沉积模块及臭氧发生器,满足多种工艺条件;

3. 可沉积多种氧化物,氮化物,金属薄膜等。


 

产品应用领域

   应用研究内容:显微结构、相变行为、取向变化、裂纹萌生与扩展、材料疲劳机制、断裂机制、热-力耦合行为、微结构或构件力学性能、高温蠕变、疲劳、高温氧化腐蚀、固溶时效、等……

 

        服务领域:航空航天、国防、汽车制造、石油化工、钢铁冶金、有色金属、船舶制造、生物医学、微型传感器、大型装备制造、微机电系统、高分子复合材料、绿色新能源产业等领域。

 


售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 培训1名实验操作人员,培训时间不少于1天

免费仪器保养: 3月1次

保内维修承诺: 因产品质量引起的故障问题,免费维修或更换。

报修承诺: 24小时内做出响应,3-5天到达用户现场排除故障。

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祺跃科技原子层沉积MINI-ALD4的工作原理介绍

原子层沉积MINI-ALD4的使用方法?

祺跃科技MINI-ALD4多少钱一台?

原子层沉积MINI-ALD4可以检测什么?

原子层沉积MINI-ALD4使用的注意事项?

祺跃科技MINI-ALD4的说明书有吗?

祺跃科技原子层沉积MINI-ALD4的操作规程有吗?

祺跃科技原子层沉积MINI-ALD4报价含票含运吗?

祺跃科技MINI-ALD4有现货吗?

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