Plasma Etch手持式大气等离子清洗笔
Plasma Etch手持式大气等离子清洗笔

¥5万 - 10万

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Plasma Etch

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Plasma Wand

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美洲

核心参数

仪器种类: 进口等离子清洗器

射频频率: 40kHz

功率: 30w

样品腔材质:

工作气体: 1

控制方式: 手动

Plasma Wand手持式大气等离子清洗机

 

      PLASMA WAND 是一款可以握在手中操作的等离子体发生设备,无需外部气体,只需接通电源即可工作运行。PlasmaWand是一款完美的小型设备,适用于研究所,大学的实验室,或者任何需要小型等离子设备的场合。

      PLASMA WAND非常适合大样品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化处理。Plasma Wand是一体化等离子装置,虽然简单却可以提供多种功能的解决方案,同其他等离子系统一样,提供一致的和可重复的结果。

 

PLASMA WAND喷嘴包括:

1.      标准喷嘴:用于清洗塑料、橡胶和绝缘材料。

2.      近距离喷嘴:用于清洗金属和导电材料

3.      多组分气体喷嘴:使用氩气或氦气作为输入气体。

 

       PE公司成立于1980年,致力于提供电子行业用的等离子设备及相关服务。通过几十年的发展,公司发展成为提供等离子设备方面的专家,可为客户提供专业的产品和解决方案,先后众多知名企业提供等离子处理设备:美国宇航局NASA, 美国波音Boeing,电子保安系统产品制造商美国霍尼韦尔Honeywell,美国摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer,世界军用飞机的领军企业美国洛克希德马丁Lockheed-Martin等等。

   

      Plasma Etch拥有多项发明专利,在开发和制造等离子设备方面有许多突破性创新,公司拥有等离子体技术和制造技术领域里有优势的技术。这些专利技术的产品线是公司独有的,生产的等离子设备是业界公认的集清洗速度、完整均匀性、安全可靠性为一体的等离子处理设备。

 

标   准   配   置

重量

6盎司/170克

发生器

30w集成电源

气体输入

空气/氩气/氦气

等离子体温度

< 50℃

工作距离

5~10mm

处理宽度

5~20mm

 

 

 

 

 

 

 

 


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