仪器种类： 进口等离子体表面处理仪
射频频率： 13.56 MHz
功率： 750 Watts
设备尺寸： 290 mm(D), 340 mm(P)
样品腔容积： 25 lt
样品腔材质： 铝
工作气体： Two or Three Gas Lines
控制方式： 自动
SEM/TEM样品预处理，表面改性，等离子清洁，等离子活化，刻蚀以及反应离子刻蚀，等离子沉积等
Gambetti Kenologia 是欧洲著名的真空系统解决方案供应商, 其旗下Colibri, Tucano, Heron系列全自动化等离子表面处理系统应用于小型生产以及研发实验室使用和发展历史已经超过了20年, 随着研发提升以及软硬件更新, 现在的系统不但拥有使用的高稳定性, 高效率外, 其集成化桌面型设计以及友好操作界面使得客户上手操作及调整参数都非常简易.
其全球客户群已经3000多套, 遍布欧美各大著名的微纳加工实验室以及化学生物实验室, 著名包括欧洲尤利希中心, 法国生物化学与生物分子研究中心, 法国电子及信息处理实验室, 法国应用光学研究所, 意大利国家光学研究所, 意大利电极加工研究中心, 德国生物技术研究所, 德国航空航天研究所, 德国马普所, 英国国家工程实验室, 美国麻省理工林肯国家实验室等等.
Specification:
| Specification | Colibri | Tucano | Heron |
| Chamber Volume | 2 lt | 5.5 lt | 25 lt |
| Chamber dimensions | 直径100 mm,高 280 mm | 直径150 mm, 高 330 mm | 290 mm(D), 340 mm(P) |
| Electrode | With dark shield | With dark shield | Concentric with perforated cage |
| Box dimensions (l,h,d) | 450 mm, 180 mm, 370 mm | 450 mm, 280 mm, 440 mm | 1750mm, 700 mm, 600 mm |
| Max. power | 200 Watts at 13.56 MHz | 200 Watts at 13.56 MHz | 750 Watts at 13.56 MHz |
| Gas inlet | Two or Three Gas Lines | Two or Three Gas Lines | Two or Three Gas Lines |
| Vacuum pump | High Reliable Dual Stage Pump | High Reliable Dual Stage Pump | High Reliable Dual Stage Pump |
湿法刻蚀的缺点在于各向同性横向侧面刻蚀和垂直刻蚀是一致的速度。干法刻蚀的目的在于制作一个各向异性刻蚀-意味着刻蚀是定向的。一个各向异性刻蚀性能对于一个好的微纳图形转移是至关重要的。反应离子刻蚀RIE就是这种标准的干法刻蚀方式。RIE典型的反应气体是O2 和 CF4.
Applications:
