仪器种类： 进口等离子体表面处理仪
射频频率： 13.56MHZ
功率： 600W到2000W
设备尺寸： 20寸到24寸
样品腔容积： 20寸到24寸
样品腔材质： 特种铝材或不锈钢
工作气体： 5路
控制方式： 全自动
美国PE公司1980年就开始致力于电子行业使用的等离子设备研发及相关服务, 至今已成为全美最著名的等离子系统解决方案专业供应商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列，大气压系列, PCB专用系列, Roll-to-Roll系列的发展历史已经超过了30年, 广泛应用于全球各大小型生产及研发实验室, 全球超过8000套用户。
知名客户如美国宇航局NASA, 波音Boeing, 霍尼韦尔Honeywell, 摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer, 军用飞机领军企业洛克希德马丁Lockheed-Martin, 及全美各大名校及科研院所如哈佛大学, 麻省理工, 莱斯大学, 橡树岭国家实验室等等。
美国PE公司拥有等离子技术领域里最顶尖的技术, 凭借着多年研发和突破性创新, 先已拥有了多项技术专利, 如专利的温控技术和专利的静电屏蔽技术, 使其等离子设备能提供无与伦比的处理效率, 均匀性和可靠性, 其刻蚀清洗效率是市面上其他等离子设备的三倍以上。
应用领域如下：
目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、改性、灰化、涂镀和反应离子刻蚀，在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域有广泛应用。
RIE系统刻蚀效果取决于气体的流量，压力和功率设置等方面。
我们设计和制造的反应性离子蚀刻系统，可以满足客户的任何需要，且可以根据客户的要求定制适合的等离子系统。我们的等离子处理系统，以提供快速，高品质的蚀刻，低损伤，提供无与伦比的均匀性而著称。
我们的等离子蚀刻机是理想的干蚀刻，目前正在采用的蚀刻：
半导体/集成电路
氮化镓（甘）
氮化铝镓/氮化镓（AlGaN/GaN）
砷化镓/砷化铝镓（一般反避税条款/ algaar）
砷化镓（GaAs）
磷化铟、铟铝砷/铟镓砷化物（InP InGaAs/InAlAs）
硅（硅）
硅锗（SiGe）
氮化硅陶瓷（Si3N4）
硅的溴化氢（sihbr）
硒化锌（ZnSe）
金属
铝（铝）
铬（铬）
铂（铂）
钼（钼）
铌（铌）
钽（钽）
钛（Ti）
钨（钨）
电介质
铟锡氧化物（ITO）
锆钛酸铅（PZT）
碳化硅（碳化硅）
塑料/聚合物
聚四氟乙烯（PTFE）
聚甲醛（POM）
聚苯并咪唑（PBI）
聚醚醚酮（PEEK）
聚酰亚胺（聚酰亚胺）
聚酰胺（尼龙）
全氟烷氧基烷（PFA）
聚全氟乙丙烯（FEP）
聚烯烃
聚酯
失效分析
