硅晶片气体捕集装置

仪器简介：
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-12400)
?捕集单面硅晶片挥发性气体，操作简便。
?加热炉采用倒悬方式（参照下图），仅对晶片正面产生的气体进行捕集采样。
?加热炉最高可加热到500℃。
?加热炉封口采用O形环（聚亚胺材质）密封，无泄露。
?一般采用PAT（内容积10ml，填充2.5g Tenax GR）捕集气体。也可选用其他厂家的相应捕
集采样管进行采样。
?配备冷却水循环装置。
?配备防过热装置、联锁安全装置、急停按钮、漏水传感器（选配）等安全防范装置。


技术参数：
方式            ： 倒悬方式

捕集硅晶片尺寸： 8"或6"，5"以下需添加扩充环（12400型，12"）

O形环：封口部直径220mm（聚亚胺）

石英加热炉： 透明石英材质

加热炉加热方式： 顶板?底板独立加热方式

加热炉使用温度： 常用400℃（最高可达500℃）

加热炉冷却： 冷却水循环装置

保温管： 内表面惰性化镀层处理

吹扫气： 通常用氮气，最大使用流量500ml/min

防过热装置： 电流15A，感应电流30mA

急停按钮： 红色，蘑菇型

安全装置： 联锁结构

加压方式： 电机驱动

设备尺寸： 1140(W)×1106(H)×750(D)mm

电源： 单相AC200V、15A?AC100V、20A

重量： 280　Kg

标准附件：

PAT（一级吸附管）： 2支（与其它公司捕集管不配套）

PAT架： 1个（与其它公司捕集管不配套）

PAT适配器： 1个（与其它公司捕集管配套使用）

O形环： 2个

冷却水循环装置： 1台（附标准配管）

保温管： 1支

气体配管： 1套（1/16"-1/8"）

缆线： 1套

工具： 1套

操作说明书： 1册

＊SW-12400型的技术规格请垂询。


主要特点：
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-12400)
?捕集单面硅晶片挥发性气体，操作简便。
?加热炉采用倒悬方式（参照下图），仅对晶片正面产生的气体进行捕集采样。
?加热炉最高可加热到500℃。
?加热炉封口采用O形环（聚亚胺材质）密封，无泄露。
?一般采用PAT（内容积10ml，填充2.5g Tenax GR）捕集气体。也可选用其他厂家的相应捕
集采样管进行采样。
?配备冷却水循环装置。
?配备防过热装置、联锁安全装置、急停按钮、漏水传感器（选配）等安全防范装置。