日立高新磁控溅射器MC1000
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日立高新磁控溅射器MC1000

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日立

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MC1000

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亚洲

  • 白金
  • 第12年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

    日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm

 

特点:

  • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

  • 可处理较厚或较大的样品(选配件)

  • 记忆功能可存储常用加工条件

规格:

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日立高新磁控溅射器MC1000信息由日立科学仪器(北京)有限公司为您提供,如您想了解更多关于日立高新磁控溅射器MC1000报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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