核心参数
仪器种类: 高真空快速退火炉
产地类别: 进口
样品尺寸: 6英寸
温度范围: 可在常压或者真空(控压)下工作
最高升温速率: 150 K/s
降温速率: 150 K/s
退火温度准确性: ±1度
退火温度均匀性: 95%
Centrotherm 卧式热反应系统-E1200/初步小规模生产的卧式炉-E1550/大批量生产的卧式炉-E2000
品系列包括:氧化炉、退火炉、扩散炉、真空烧结炉等。
目前已有数千台Centrotherm设备安装在世界各地,被广泛地应用于半导体IC、MEMS微机电系统、3D封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域,尤其在SIC领域的应用更具有优势。
E1200卧式热反应系统
一、 产品简介
E1200型卧式热反应系统是由德国centrotherm公司研制的特为研发、小批量生产用热反应系统。具有小体积、高工艺性能等特点
可用作常压CVD、LPCVD、PECVD、扩散、氧化、退火等工艺过程,以优良的品质、极小的体积、低成本的特点,特别适合低产量、多工艺适应性加工要求的研发或小批量生产。
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二、 工艺特性
常压工艺
LPCVD工艺
PECVD工艺
三、 产品特性
最多可搭配4组石英管或碳化硅管反应炉;
清洁的自动载舟系统;
反应炉独立控制提供了优质的小批量或复杂工艺能力;
先进的水冷却系统设计杜绝反应炉的温度干扰不耗用洁净室空气;
设备参数:
反应炉使用晶片尺寸:150mm(最多50片)或200mm(最多25片)
加热系统:3组300mm恒温区,温差0.5℃;
温控范围:200℃~1300℃;
可处理工艺气体种类:H2、Ar、N2O、N2、SiH4、NH3、B2H6、PH3、SiH2Cl2;
系统总功率:55kW
电源供给:400V.80A;
压缩空气:600~1000kPa;
冷却水流量:50~70LPM
排气能力:400m3/H
E1550-初步小规模生产的卧式炉
centrotherm E1550 最优化系统,支持多种工艺能力,适用于中等生产能力和高工艺性能用户,是一款安全、可靠、易于维护的卧式扩散炉平台。该炉可高达4层石英管或SiC工艺管, 其硅片尺寸可达300毫米的。凭借其低维护和运行成本、及占地面积小等优势, E1550 可以生产出极具成本效益的产品。
特点:
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计,便于在洁净室安装调试
E2000-大批量生产的卧式炉
centrotherm 2000专为大批量生产而设计,支持多种工艺能力,适用于大批量生产和高工艺性能的用户,并具有突出的高性能、占地面积小、低购置成本等优势。该产品对多种应用要求的高工艺具有的灵活性,并可高达4层石英管或硅片尺寸可达300毫米的SiC工艺管
特点:
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计,便于在洁净室安装调试
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Centrotherm 卧式热反应系统有现货吗?
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)