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解决方案

CMP浆料的快速稳定性研究

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稳定性
CMP抛光浆料(Chemical Mechanical Slurry),又称CMP浆料、抛光液、研磨液、研磨料,是CMP工艺的3大关键要素之一,其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平。本文利用LUM加速型稳定性/分散体分析仪对两款不同配方的金刚石CMP浆料进行快速稳定性研究

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罗姆稳定性分析仪LUMiFuge ® 110

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