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MC方案：测量厚膜的厚度均匀性
2020/03/09 16:35
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方案摘要：
产品配置单：
美国Laurell匀胶机WS-650-23NPPB
型号： WS-650-23NPPB
产地： 美国
品牌： 劳瑞恩
¥5万 - 10万
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进口纳米狭缝涂布机
型号： nRad
产地： 美国
品牌：
面议
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FR-uProbe微米级薄膜表征
型号： FFR-uProbe
产地： 未知
品牌：
¥5万 - 10万
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方案详情：
用白光反射光谱法（WLRS）
测量厚膜的厚度均匀性
目标：准确测量反射基材上厚膜的厚度及其均匀性。
方法：WLRS被引入用于测量厚透明膜情况下的膜厚度和均匀性。 所有测量均使用FR-Basic进行，调谐后可在400-1000nm光谱范围内进行。 样品是通过旋涂涂覆有热SiO2和SU-8膜的Si晶片。 对于参考测量，使用标准的硅晶片。
结果：膜厚均匀性在很大程度上取决于涂膜方法。 在低速下旋涂粘性溶液会产生膜厚不均匀，而诸如热氧化或CVD的过程会导致膜均匀。 图1-2示出了3.0μm厚的SiO 2的膜厚度测量。 由于热氧化过程，不均匀性为零。 给出了厚的旋涂SU-8膜的膜厚测量。 对于10μmSU-8，在探测区域（直径约350μm）上的不均匀度为12nm，远低于50μmSU-8膜的131nm的值， 因为使用了较低粘度的溶液并以较高的速度应用。
结论：证明了膜厚度和膜厚度均匀性的准确测量
FR的工具基于白光反射光谱(Reports) 。
准确同步的厚度测量及薄膜的折射率
-一个广泛的多样化的应用范围广泛的光电
特性的工具和整体解决方案，如:
半导体、有机电子、聚合物、涂料和涂料、
光伏、生物传感、化学传感...
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