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核心参数
产地类别： 国产
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
1、配置三个靶枪，两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
| 产品名称 | VTC-600-3HD-1000双靶磁控溅射仪 | |
| 产品型号 | VTC-600-3HD-1000 | |
| 主要参数 | 1、输入电源：220V/50Hz | |
| 产品规格 | 主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm | |
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企业名称
沈阳科晶自动化设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
210132000055868
成立日期
2003-06-11
注册资本
150
经营范围
切割、研磨、抛光、机床自动化设备及耗材生产与销售;经营本企业自产产品及技术的出口业务和本企业所需的机械设备、零配件、原辅料及技术的进出口业务(但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外)。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动。)
沈阳科晶自动化设备有限公司
公司地址
沈阳市浑南区浑南中路35-27号国际产业园 沈阳科晶自动化设备有限公司
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