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牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀-ALE-Flyer_2015-LR牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀-ALE-Flyer_2015-LR

简介：•Etch rates 2 to 7Å/cycle •Demonstrated results in a-Si, Si, SiO2, MoS2 layer etching •Fast recipe control down to 10ms •ALD-style gas dose delivery using “ALD valves” with 10ms open-close 详细>
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相关产品：牛津仪器ALD OpAL原子层沉积
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