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共 13 台外延系统 3I规则
脉冲激光沉积系统(PLD)

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分类小贴士

外延系统（epitaxial growth system）是一种用于制备半导体材料的设备，主要用于生长单晶薄膜和异质结构材料。它通过将气态化合物输送到反应室中，并通过控制温度、压力、流量等实现材料的生长。外延系统通常采用化学气相沉积（CVD）或分子束外延（MBE）等技术，可以在晶片上形成各种复杂的材料结构，如超晶格、量子阱等用于制造光电器件、太阳能电池等应用。外延系统具有高生长速率、良好的材料均匀性、可控性和重复性等优点，被广泛应用于半导体产业。

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