脉冲激光沉积系统 180 Laser MBE/PLD

产品简介

激光 MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电 子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数 RHEED 通常在高真空（<10 ^-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要 的，维持 RHEED 电子枪的工作压力，同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束 的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统，比如超高真空激光衬底加热器，用于集成原位分 析系统（XPS/ARPERS 等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。

我们会根据客户需求提供优质的脉冲激光沉积方案和专业的技术服务。

产品特点

独立的MAPLE PLD系统
有机和聚合物薄膜的沉积
在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射和直流离子源
Load-lockable衬底阶段
与XPS分析系统集成，直接将晶片从PLD系统转移到分析系统

技术参数

1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)

2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射加热器)

3.衬底加热:1000 ℃(激光加热器)；850℃(辐射加热器)

4. 目标旋转：直径 6 x 1 "或3 x 2 "

5.工业气体:氧气和氮气100 SCCM的mfc

6. 软件:Windows 7/Labview 2013

7. RHEED电子枪与软件:a.射柱电压：30keV；b.运行压力:500 mTorr/氧；c. RHEED屏幕/快门。d. CCD摄像机和数据采集软件