电子元器件产品检测

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集成电路(IC)中集成电路(IC)金相制备检测方案(磨抛机)

电子学是工程学的一个重要分支, 它是一门关于为了有用的目的而对电子进行控制的学科。运用物理学的知识得知, 电子的流动可以在真空、气体、或液体中进行,也可以在固体中受限制地流动(半导体)、接近不受限制地流动(导体)、或完全不受限制地流动(超导体)。 当今, 电子产品正变得越来越复杂,工程技术人员总是力图将许多部件放在一个小小的“黑匣子”中。制造商总是想把大部分资金用在改善其生产设施,而只愿意留下很少一部分资金用于质量控制。最坏的情况是,大多数公司宁愿把他们的质量控制资金用于基本设备投资,例如购买新型扫描电子显微镜、透射电子显微镜,或是厄歇谱仪,只剩下很少一部分钱用来购买试样制备设备和消耗器材。一个众所周知的现象就是人们对试样制备的重要性一直不够重视。 另一方面, 毫无疑问,最终产品的质量和可靠性取决于每个部件的性能。然而,这也总是电子工业的一个令人头痛的问题。对电子产品的截面进行金相检验是一种众所周知并通常广为接受的检验方法。 然而,大多数电子产品的金相技术人员可能面临的一个问题就是他们需要进行磨光和抛光的材料比预期的复杂和困难。他们也许从来没有学习过如何去处理多层基体材料,而他们在大学学习时只学过如何恰当地制备均匀的材料,例如钢、铜合金或铝合金。此外,他们还须面对设备很差的金相实验室,消耗器材的品种也很有限,并且使用所谓的“传统或常规方法”来制备先进的电子产品试样。 一般情况下,常规试样制备方法是从240#碳化硅砂纸开始,先进行磨成平面工序,接着使用600#、1200#砂纸,然后用0.3 ?m 氧化铝进行粗抛光,以及0.05 ?m 氧化铝在长绒毛织物上进行最终抛光,这样可获得光亮的表面。制备方法还可能因地而异,甚至还取决于实验室有哪些现成的消耗器材。当今,这种制备方法已经不适于用来制备先进材料。此外,他们也没有想到他们的试样是否好到足以和先进的显微镜或扫描电子显微镜相匹配。 在本文中,我们试图给出各种集成电路(IC)封装、引线连接,以及其它部件的试样制备方法。
检测样品: 电子元器件产品
检测项: 集成电路(IC)金相制备

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电子元器件中失效分析检测方案(镶嵌机)

Microelectronics, Part I: Cutting, Mounting Written by: Scott Holt,Applications Engineer,Buehler Editor:George Vander VoortDirector, Research and Technology, Buehler Introduction For most microelectronic devices and packages, direct microscopic observation of a cross section is an important means of inspecting a particular defect. The creation of a cross section, as a destructive measure, is often used in the microelectronics lab as a decisive and final inspection tool after all other economical means of nondestructive inspection are employed. In order to produce a cross section, many of the techniques used in the metals industry have been borrowed; to a large degree, with success. However, the philosophy and logic for choosing a particular method of cutting, mounting, and abrasive preparation has often been lost in the process. This is of extreme significance because the needs of the microelectronics industry vary greatly from those of the metals industry. Issues such as feature size, specific area cross sectioning, and the ability to prepare a variety of materials with different mechanical properties within a single plane of polish require an understanding of basic abrasive processes so that appropriate sectioning methods might be developed. This issue of TECH-NOTES is the first half of a two part effort to summarize some of the basic concepts involved in proper preparation of microelectronic materials. We will discuss some simple guidelines which the microelectronic materials analyst might draw upon in the development of better preparation techniques. In particular, this issue will cover the variables involved in cutting and mounting of microelectronic materials, and summarize some of the technique and consumable choices that must be considered in order to achieve quality results. The next microelectronics issue of TECH-NOTES will continue with the abrasive processes of grinding and polishing these materials.
检测样品: 电子元器件产品
检测项: 失效分析

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仪器信息网行业应用栏目为您提供545篇电子元器件产品检测方案,可分别用于物理性质检测、化学性质检测、特性检测、其它检测、可靠性测试检测,参考标准主要有等