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掩模修补系统

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1 台掩模修补系统 3I规则
Park NX-Mask

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Park NX-Mask光掩模修复原子力显微镜

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掩模修补系统是一种用于修复图像中缺失或受损部分的技术。它的基本思路是利用图片中的已有信息(即未损坏区域)来推断损坏区域的内容,并用合理的方式进行填补,使得整个图像看起来更加完整、自然。 掩模修补系统的实现方法大致可分为两类:基于局部匹配和基于全局优化。前者通常采用的是传统的计算机视觉技术,如块匹配、纹理合成等;后者则一般采用了更加高级的算法,比如基于图论模型的能量最小化等。 无论使用何种方法,掩模修补系统都需要一个掩模(也称作遮罩或蒙版)来指示需要被修补的区域。这个掩模可以由人工标注生成,也可以通过算法自动识别出来。 总的来说,掩模修补系统在图像处理、计算机视觉、图形学等领域都有广泛的应用,例如去除图像中的水印、修复老照片、视频修复等。

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