电子探针显微分析仪EPMA-8050G
电子探针显微分析仪EPMA-8050G

¥100万 - 200万

暂无评分

暂无样本

EPMA-8050G

--

亚洲

核心参数
同类推荐

看了电子探针X射线微区分析仪(EPMA)的用户又看了

  • 概述


“The Grand EPMA” 诞生

搭载最尖端场发射电子光学系统
将岛津EPMA分析性能发挥到极致

从SEM观察条件到1μA量级,在各种束流条件下都拥有无与伦比卓越空间分辨率的尖端场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪,将分析性能发挥至极致。

当之无愧的“The Grand EPMA” ,最高水准的EPMA诞生!


超高分辨率面分析

对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像(左侧)上直径只有50nm左右的Sn颗粒,在X射线图像(右侧)上也是清晰可见。

最尖端技术实现

无与伦比卓越的空间分辨率
EPMA可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm(加速电压30kV)分析条件下No.1的二次电子分辨率。
(加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA)

二次电子图像最高分辨率3nm
碳喷镀金颗粒的观察实例。实现最高分辨率
3nm(@30kV)。相对较高的束流也可将电子束压
细聚焦,更加容易的获得高分辨率的SEM图像。

大束流超高灵敏度分析
实现3.0μA(加速电压30kV)的最大束流。
全束流范围无需更换物镜光阑。

■ 最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪
无人可及的52.5°X射线取出角。
4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。
最多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。

全部分析操作简单易懂
全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。
追求「易懂」的人性化用户界面。
搭载导航模式,自动指引直至生成报告。

超高灵敏度面分析

使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。精确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相(左侧),同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前(右侧)。


实现微区超高灵敏度分析的先进技术


1 高亮度肖特基发射体
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大,输出更高。即可以保持其高亮度,还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。

2  EPMA专用电子光学系统
电子光学系统,聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧,交叉点不是靠聚光透镜形成,而是由安装在与物镜光阑相同位置上,具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的(日本专利:第4595778号)。简单的透镜结构,既能获得大束流,同时全部电流条件下设定最合适的打开角度,将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。

3 超高真空排气系统
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔(orifice)间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小,以控制流入中间室的气体,使电子枪室始终保持着超高真空,确保发射体稳定工作。

4 高灵敏度X射线谱仪
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时,又可减小样品对X射线的吸收,实现高灵敏度的分析。

无与伦比卓越的空间分辨率

使用分析条件束流,引以为傲No.1的二次电子图像分辨率。(加速电压10kV时,20nm@10nA//50nm@100nA/150nm@1μA)。与原来的电子枪(CeB6、钨灯丝)的结果相比,一目了然。

由于可用更大的束流得到与原来电子枪相同分辨率的图像,所以可进行超高灵敏度的X射线分析。 更加值得注意的是,束流为1μA时的SEM图像。能够得到1μA以上束流,而且可以压缩到如此细的只有EPMA-8050G。


各种电子枪产生电子束的特性比较(加速电压10kV)

大束流超高灵敏度分析

场发射类型的SEM、EPMA可实现其他仪器所不能达到的大束流(加速电压30kV时最大3μA)。在超微量元素的检测灵敏度上实现了质的飞跃,将元素面分析时超微量元素成分分布的可视化成为现实。而且,所有束流范围内不需要更换物镜光阑,完全不用担心合轴,实现了高度自动化分析。

面的3个图像为不同束流下,对不锈钢中约1%左右Si进行面分析的结果※。束流越大,偏差越小,越能更加清楚的确认包含Si的范围。

※ 分析条件:加速电压10kV,积分时间50msec。分析花费时间约1小时。

最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪


用户评论
暂无评论
电子探针显微分析仪EPMA-8050G信息由上海拓精工业测定仪器有限公司为您提供,如您想了解更多关于电子探针显微分析仪EPMA-8050G报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
移动端

仪器信息网App

返回顶部
仪器对比

最多添加5台