Leica EM ACE200 真空镀膜仪
样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。
Leica EM
ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制,简单方便。
主要技术参数:
1 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
2 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度
3 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm
4 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程
5触摸屏控制,简单方便
6 真空度?7×10-3mbar
7溅射电流:0-150mA可调
8方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)
9工作距离调节范围:30mm-100mm
Leica EM ACE600 高真空镀膜仪
Leica
EM ACE600
是一款高真空镀膜仪,真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵,无油真空系统,真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器,可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用当下最流行的触摸屏控制,简单方便。
仪器可选离子溅射镀金属膜,满足高分辨场发射扫描电镜(FESEM)需求。可选碳丝蒸发镀碳膜,用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜,获得极其细腻的金属膜与碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。
主要技术参数:
1 可任选离子溅射模式,碳丝蒸发镀碳模式,碳棒(热阻)蒸发模式,电子束蒸发模式,双溅射模式,溅射-碳丝模式,溅射-碳棒模式,溅射-电子束模式,双电子束模式,可兼容EM
VCT100冷冻传输系统,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)
2专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度
3 内置石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm
4 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程
5 触摸屏控制,简单方便
6 采用隔膜泵+涡轮分子泵,无油真空系统,真空度?2×10-6mbar
7 溅射电流:0-150mA可调
8方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:200mm(宽)×150mm(深)×195mm(高)
9样品台内置旋转,工作距离调节范围:30mm-100mm
云必真空设备原位进样系统/真空转移盒/原位样品台MUST IN2
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