C10178-01 纳米膜厚测量仪系列
C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等多种项目。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！
特性
高速、高准确度
实时测量
映射功能
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n,k）
可外部控制
与特定附件配合，可测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等。
参数
| 型号 | C10178-01 |
| 测量模型 | 标准型（通用测量） |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 20 nm to 50 μm*1 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.01 nm*2 *3 |
| 测量准确度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | 卤素灯 |
| 测量波长 | 400 nm to 1100 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距离 | 10 mm*3 |
| 可测层数 | 最多10层 |
| 分析 | FFT 分析，拟合分析，光学常数分析 |
| 测量时间 | 19 ms/点*5 |
| 光纤接口形状 | φ12套筒型 |
| 外部控制功能 | RS-232C, 通过PIPE或Ethernet进行内部软件数据传输 |
| 接口 | USB2.0 |
| 电源 | AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 250W |
*1：以 SiO2折射率1.5来转换
*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*5：连续数据采集时间不包括分析时间
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