H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描，可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统。
技术特点
单片式光学结构确保光通量大化，高光学稳定性
配备4型消像差单色仪光栅，全光谱范围线色散均匀
全自动蜗轮高速驱动光栅
光栅表面镀氟化镁膜，优化120nm以上波长的输出
典型应用
透射反射测量
荧光激发
可调滤波/光源
激光谐波滤波
技术指标
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光学设计 |
HJY的4型消像差单色仪光栅 |
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焦长 |
200 mm |
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孔径 |
f/4.2 |
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刻线密度 |
1200 gr/mm |
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光学镀膜 |
针对121nm优化的MgF2膜 |
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偏转角 |
64° |
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色散 |
100nm处3.6 nm/mm |
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驱动 |
高速蜗轮驱动 |
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小步进 |
0.06 nm |
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速度 |
400 nm/s |
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精度 |
+/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*) |
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可重复性 |
+/-0.06 nm |
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分辨率 |
优于0.5 nm (**) |
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高真空 |
10-5 mbar (***) |
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真空泵法兰 |
DN40 KF |
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入射/出射接口 |
测微狭缝(10 um 至 2 mm) |
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入射/出射法兰 |
DN25 KF |
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电脑接口 |
USB2.0 |
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可选项 |
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超高真空 |
10-9 mbar |
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狭缝高度调节器 |
2, 4, 6 mm |
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(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度 |
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(**)使用宽10微米，高2mm的狭缝在121nm处测量 (***)H20-UVL不含真空泵和真空计 |
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