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半导体&电子测试测量，投稿：kangpc@instrument.com.cn
仪器信息网讯 8月29日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第四届微光刻分委会年会暨第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开。
会议期间，仪器信息网特别采访了中国科学技术大学微纳研究与制造中心工程师周典法。据介绍，微纳研究与制造中心截至目前总投入约2.5亿，拥有相关机台100多台套，相当于一条6寸中试线。自14年运营以来，微纳研究与制造中心总注册人数已达3000多人，为全国大约四五百个高校和企业课题组开展微纳加工、集成电路相关研究和产品中试研发服务。中心主要服务高校的科研支撑岗位，拥有完整的半导体工艺，包括光刻、薄膜沉积、刻蚀、封装和测试表征等，而周典法主要研究方向是电子束光刻。
周典法向我们透露，18年以后，很多先进装备采购受限，采购一台设备需要打报告审批等国外批示周期长，甚至直接流标。缺少先进装备制约着我国微纳加工工艺的发展。从去年开始，周典法所在团队开始与一些企业合作，使用AFM原理解决拼接场错位的问题。
以下为现场采访视频：
[来源：仪器信息网] 未经授权不得转载
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