半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
仪器信息网讯 8月29日,全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第四届微光刻分委会年会暨第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开。
会议期间,仪器信息网特别采访了深圳清力技术有限公司实验平台负责人、深圳超滑技术实验平台主任潘旭捷。据介绍,深圳超滑技术实验平台是由深圳市政府、深圳坪山区政府以及深圳清华大学研究院共同支持成立,总投资1.5亿,拥有200余台半导体制备和表征设备。实验平台一方面支撑结构超滑技术的研究,另一方面也对外开放,目前已经具备了6英寸MEMS芯片流片能力,同时也支持 MEMS器件、先进封装、微纳米光学、光电子、生物芯片等一系列些微纳米器件的工艺开发和打样,目前平台合作伙伴有100余家,合作项目200余项。
深圳超滑技术实验平台研究领域是结构超滑技术,研究覆盖基础物理机理、材料研究、相关微纳米级加工和表征技术,以及相关的应用及产业化。潘旭捷表示,当前结构超滑研究的关键技术主要在于材料制备和器件制备,需要协同光刻、刻蚀等一系列微加工技术来共同完成。结构超滑技术是我国原创的一项根技术,借助结构超滑技术有望助力各个材料或者设备厂商突破国外卡脖子问题。目前国内在结构超滑领域取得了不少新的突破,包括大面积的材料制备,结构超滑器件的制备等,均处于国际领先的阶段。深圳清力技术有限公司团队在结构超滑材料及器件制备的特色设备上做到自主研发,同时大部分通用微加工设备也属于国内完全可控。对于科技前沿研发需要用到的部分设备例如电子束光刻系统等,仍处于国外卡脖子的状态,亟待国内厂商攻关突破。
以下是现场采访视频:
[来源:仪器信息网] 未经授权不得转载
国产半导体产业突破是一场持久战——访中国科学院半导体研究所颜伟
2023.09.18
2023.08.30
2023.08.31
2024.05.24
这两天!第26届集成电路制造年会暨供应链创新发展大会在广州隆重开幕
2024.05.23
2024.05.23
版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功,积分获取达到限制
投票成功~
投票失败了~