半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
众所周知,在9月15日之后,华为已被全面断供。浓浓的情绪之下,中科院作为中国研发硬实力宣布牵头研发光刻机。中科院布局光刻机和卡脖子相关技术的消息,一经发出便引发了业界的欢呼。
9月16日,根据媒体报道,中科院院长白春礼接受采访时表示:“未来中科院将集结全院之力攻克光刻机、关键材料等重点技术,帮助国内科技企业摆脱被西方国家卡脖子的命运。”
虽然,光刻机技术落后,特别是EUV极紫光刻机落后是事实。但事实上,光刻机产业并不是从零开始的。
2019年,上海集成电路峰会上,国家集成电路创新中心总经理张卫向透露的“中国集成电路技术路线图”中的六大内容中,就包括了先进光刻工艺发展趋势的这一项。
另外,国内光刻技术早已达到65nm水平,甚至更高水平的工艺的消息频繁流出。
今年7月,中科院方面公布了一种5纳米工艺的激光光刻技术,2019年12月份,中科院还公布了一项新型垂直纳米环栅晶体管技术。
可以说,在先进技术,特别是光刻机上,中科院一直是在努力之中的,只不过是背后默默的英雄。
21ic家认为,国内最大的研究所加入到光刻机的研发,不仅拥有最好的人才和研发资源,还具有最好的牵头作用。
众所周知,虽然光刻机一直在卡脖子,但要知道光刻机也拥有自己的产业链,包括镜头、激光、光刻胶材料、测试测量都是必备的环节。当然,中科院也明确表示将会将卡脖子的技术都列入可研清单之内,因此中科院的未来研究成果非常值得期待。
[来源:中国电子网 ]
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