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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备

品牌: MVSystems
产地: 美国
型号: SiNx-PECVD
报价: ¥5万 - 10万
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核心参数

产地类别: 进口

产品介绍

用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS

Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells

Throughput: >475 wafers/hr

SiNx uniformity: < ?5%

产率:>475硅片/小时。

氮化硅膜不均匀性:< 5%。




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MVSystems镀膜机SiNx-PECVD的工作原理介绍

镀膜机SiNx-PECVD的使用方法?

MVSystemsSiNx-PECVD多少钱一台?

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镀膜机SiNx-PECVD使用的注意事项?

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工商信息

企业名称

上海瞬渺光电技术有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司(国内合资)

信用代码

310114001137602

成立日期

2004-10-15

注册资本

人民币壹佰万元

经营范围

激光设备、机电设备、电子产品、计算机网络领域的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务,激光设备、机电设备、电子产品的销售。(企业经营涉及行政许可的,凭许可证件经营)

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上海瞬渺光电技术有限公司为您提供MVSystems制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备SiNx-PECVD,MVSystemsSiNx-PECVD产地为美国,属于进口镀膜机,除了制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供热丝CVD设备HWCVD MVS、PECVD MVS、卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS,瞬渺客服电话,售前、售后均可联系。

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