乙硅烷是一种无机化合物，其化学式为Si2H6，在常温常压下为无色透明，且具有一定刺激性气味的有毒气体，在自身蒸汽压下是无色透明液体。乙硅烷气体可以与氢气、氩气、氮气、氦气等以任意比例混合，可以溶于苯、二硫化碳、乙基硅酸和乙基醇。乙硅烷在空气中能自燃，着火点低于室温，因此，乙硅烷遇到空气瞬间燃烧，并分解成为SiH4和H2。燃烧浓度范围宽，在0.2%以上时，燃烧发出火焰，在0.2%以下时，发生氧化反应生成白色的SiO2。 乙硅烷在薄膜晶体管液晶显示和芯片制造以及非晶硅膜太阳能电池生产中都有着极其重要的作用。作为沉积源时，与相同作用的硅烷相比，乙硅烷具有沉积速度更快、沉积温度更低等优点。乙硅烷可以用于非晶硅膜太阳能电池和电子产品中电子级晶体硅的生产，在太阳能电池生产中，用乙硅烷比用硅烷在非晶硅片上的沉积速度快得多，且温度可降低200～300℃。在半导体工艺中用于外延和扩散工艺，也用于太阳能电池和电子照相用的感光鼓。在离子注入中，以乙硅烷作离子源后束流强，效果明显好于用其他气体作离子源。

在装有纯化钼粉的反应器中，导入经过净化的高纯氟气体，控制反应温度在250-300℃,氟化生成六氟化钼。氟化产物经过1-3级接收器，在第一级回收高沸点杂质，第二级在-5-5℃回收六氟化钼，第三级回收过剩的氟及低沸点杂质。将六氟化钼经真空蒸馏，得到高纯六氟化钼。

半导体行业废气主要为有机废气和酸碱废气两类。有机类有：非甲烷总烃、氮氧化物、二氧化硫等；酸碱类有：氨气、硫酸雾、氟化物、氯化物、氯气等。在半导体行业中造成环境污染的有害气体，主要来源于芯片或者是线路板生产的清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影过程中。 半导体行业主要是元器件组装焊接过程中对大气的污染和电路板等器件清洗等表面处理过程中因使用一些化学药剂（如硫酸、盐酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有机卤化物）挥发造成对大气环境的污染，以及整机装配过程中产生的机械噪声和少量粉尘也会造成环境污染，这些污染气体会造成人群慢性或急性中毒。

电子特气属于半导体八大核心材料之一，全球半导体行业协会（SEMI）数据显示，电子特气在半导体晶圆制造材料价值占比13.50%，电子特气是继硅片之后的第二大半导体材料。 磷烷和砷烷为高纯特气家族中技术门槛和开发难度最高的两种气体，一直是半导体、 LED、光伏、航天和国防事业的关键原材料，长期被海外技术封锁。其中砷烷因其易燃、易爆、剧毒的特性，从合成到提纯各种环节难度较大，为电子特气中“皇冠上的明珠”。 图片磷烷是半导体器件制造中的重要N型掺杂源，其可用于多晶硅化学气相沉淀、外延GaP材料、离子注入工艺、MOCVD工艺、磷硅玻璃钝化膜制备等工艺中。砷烷主要用于外延硅的N型掺杂、硅中的N型扩散、离子注入、生长砷化镓和磷砷化镓。由于二者分子结构相似，工艺技术同源、应用场景相似，迄今尚无替代材料。

1857年德国化学家H Buff发现硅烷，在以后的100年左右的时间里硅烷只是少数研究者在实验室里研究的对象。20世纪50年代半导体科技崛起，人们开始考虑硅烷的特性，硅烷开始在电子工业中得到应用。随着一系列新技术的出现或者硅烷开发新产品的成功，硅烷用量急剧增加。进入90年代, 更多新功能器件的问世，其中已大规模开发的有超高速、超大容量计算机芯片、高清晰度平面显示器、高效率低成本太阳能电池、高性能陶瓷发动机零件、各种特异功能的传感器等等，伴随更多更新的器件涌现，硅烷的需求量逐渐增加。

四氯化硅为无色或淡黄色发烟液体，有刺激性气味，易潮解，在潮湿空气中水解而成硅酸和氯化氢，工业上的大部分四氯化硅是由硅粉高温与氯化氢合成反应而得。四氯化硅可作为气相白炭黑、高纯硅及有机硅化物的生产原料，其应用领域十分广泛。近年来，随着我国经济快速发展，四氯化硅市场需求逐渐释放，未来行业发展空间广阔。

氪、氙是空气中的稀有气体，由于其本身特性使氪氙广泛应用在照明灯具填充气，平板电脑制造、电子芯片制造、空间/卫星产业、医疗行业、检测行业、基础科研等各行业领域中。空气中存有氦、氖、氩、氪、氙等五种稀有气体，其中氪、氙含量最少，由于其提取工艺复杂，空气中占比稀少，售价高昂，因此氪、氙有“黄金气体”之称。

电子特气，即电子特种气体，是集成电路、平面显示器件、半导体晶圆、太阳能电池等电子工业生产过程中不可或缺的关键原材料。 六氟化钨（WF6）是目前钨的氟化物中唯一稳定并被工业化生产的气体，目前全球各国正在积极拓展六氟化钨的产能与下游应用领域。

六氟丁二烯，是一种新型的含氟电子气体，可作为蚀刻气、聚合单体、合成中间体等用于工业生产。与传统的等离子蚀刻气CF4、C2F6、C3F8、C4F8和NF3相比，六氟丁二烯具有更快的蚀刻速率、高蚀刻选择性和高深度比。 更重要的是六氟丁二烯在大气中寿命较短，且分子中不含氯，对大气的臭氧层显现惰性，因此六氟丁二烯是一种温室效应极低且绿色高效的蚀刻气体。

“笑气”学名为“一氧化二氮”，因吸食后令人脸部肌肉失控并形成诡异痴呆的“笑”容而得名。现实中，因长期吸食“笑气”导致生活生命悲剧时有发生。相关资料显示，作为一种短效的吸入性全身麻醉剂，吸入笑气约15到30秒即可产生欣快感，但只能持续2到3分钟。为保持这种快感，作为毒品替代品吸食者会没有节制地吸食，很容易上瘾，而它对人体神经系统破坏极强，长期大量吸食会导致脑缺氧，脑神经、运动神经损伤，成瘾者会产生幻觉，狂躁并伴随暴力攻击或自伤自残行为，严重的会出现腿不能走路、手不能拿东西等瘫痪症状，甚至死亡。

高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料，也可用于金属冶炼，光导通讯和科学研究等领域。 随着大规模集成电路的发展，对氯化氢纯度的要求越来越高，除了应具有99.999%以上的纯度，对其中杂质的含量要求越来越苛刻，尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工过程中碳的形成。 之前我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢，但近年来，我国电子工业所需的化学气体研制，在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品，但还远不能满足市场需求，市场前景广阔。

电子特气大部分气体均存在腐蚀性，并且杂质含类多，其含量检测要求需达到在ppb级别。对此，高麦利用搭载氦离子化检测器的气相色谱仪和傅里叶红外的完美配合，已成为目前“电子特气纯度分析”中更为领先的解决方案。

往往含氟电子特气中的常量杂质分析，比如O2、Ar、CO、CO2、CH4等，采用高麦气相色谱仪即可完全检出，但其中的HF、SF6、SO2等腐蚀性气体杂质，由于含量低、易吸附、腐蚀性强等原因导致很难检出。