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微反应器实现重要液晶中间体的连续化合成

简介：在传统间歇釜工艺中，需要很低的温度（-70℃）来阻止反应局部过快和过热，同时反应时间较长。温度低，使得反应速率减缓而且需要更多的能耗来冷却反应。时间长，意味着效率低同时增加了 n-BuLi 和溴二氟甲基化的不安全性。因此通过精准控制反应温度来加速反应过程是非常必要的。
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