量子和纳米级材料工程的先进平台
Q-One™是最先进的聚焦离子束平台，用于先进的器件制造和纳米级材料工程。Q-One具有确定性单离子注入功能，是世界上第一台专门为满足量子研究的苛刻要求而设计的仪器。
高分辨率质量过滤聚焦离子束
确定性单离子检测，检测效率高达98%
可选择液态金属或等离子离子源
一流的离子选择和广泛的植入物种类
飞安级光束电流，可实现精确的单离子事件
纳米级精密载物台，可处理高达 6 英寸的晶圆
专有的注入和光刻软件
确定性单离子注入意味着以令人难以置信的精度将单个离子放入底物中，并知道已经发生了注入。Q-One使用超灵敏植入后检测系统技术来检测每次离子撞击时产生的信号。
Q-One提供广泛的植入元件。液态金属离子源（LMIS）技术在单个源中产生不同元素的多个离子，包括团簇和多电荷物种。
有几种合金成分可供选择，包括硅、铒、钕、金和铋。利用我们多年的专业知识，我们确保每个源头都以最佳方式流动，以实现最大的稳定性。单独的等离子体离子源也可用于氢、氮、氧和其他气态元素。
应用
量子技术
嵌入半导体矩阵中的单个杂质原子作为量子比特（量子比特）显示出巨大的前景。单离子注入能够产生大量相同的量子比特阵列，是可重复制造这些和其他量子器件的关键途径。
然而，公差是极端的——每个原子必须非常精确地放置，有时距离其邻居只有20纳米。Q-One是唯一针对此应用而设计的工具，其规格针对这些极端要求。
应用
掺杂纳米材料
Q-One不仅限于注入单个离子。将任何所需的离子剂量植入任何位置，甚至可以使用专有软件植入自定义区域或形状。
掺杂纳米材料，如纳米线或具有不同元素的量子点，可以改变其性质。Q-One通过允许您靶向单个纳米材料并使用各种掺杂剂探索不同的行为，开辟了一个充满可能性的世界。
应用
离子光刻
Q-One允许用户执行直接写入光刻，就像普通FIB一样，但种类范围更广，离子剂量控制更好。使用铋等重元素进行高效溅射，或使用氢等轻元素进行基于光刻胶的离子光刻，甚至包括单离子事件。如果没有检测每个注入事件的方法，就不可能精确地注入单个离子。系统提供速度和可扩展性，不需要复杂的预制。因此，您可以不受阻碍地选择植入物种类和目标材料。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 1次免费培训
免费仪器保养: 3月1次
保内维修承诺: 免费维修免费更换部件
报修承诺: 2小时响应
PVD离子注入机Q-One的工作原理介绍
离子注入机Q-One的使用方法?
PVDQ-One多少钱一台?
离子注入机Q-One可以检测什么？
离子注入机Q-One使用的注意事项？
PVDQ-One的说明书有吗？
PVD离子注入机Q-One的操作规程有吗？
PVD离子注入机Q-One报价含票含运吗？
PVDQ-One有现货吗？
