核心参数
产地类别: 进口
仪器种类: FIB-SEM
(电子光学系统)发射源: 肖特基场发射源
(电子光学系统)分辨率: 0.6 nm @ 15 kV
(电子光学系统)探针电流: ~ 400 nA
(电子光学系统)视野范围: 4.3 mm @ WD=5 mm, >10 mm @ 最大 WD
(离子光学系统)发射源: 氙等离子体源
(离子光学系统)分辨率: 15 nm @ 30 keV
(离子光学系统)探针电流: 1 pA ~ 2 μA
(离子光学系统)视野范围: 1 mm
TESCAN SOLARIS X 是一款氙(Xe)等离子超高分辨双束 FIB-SEM 系统,配置新颖的 TriglavTM 超高分辨率电子镜筒以及最新款的 iFIB+TM 离子镜筒,它的超高分辨表征能力和无与伦比的样品制备效率,非常适合于材料、生命及半导体领域分析表征中最具挑战性的大体积三维样品的分析工作。
TESCAN SOLARIS X 配置的 TriglavTM 超高分辨率电子镜筒,同时使用了全新的 TriLensTM 三透镜系统以及高效的 TriSETM 和 TriBETM 探测器系统,能够提供卓越的表面灵敏度和衬度图像,实现对电子束高敏材料或不导电材料纳米特征的观察。
TESCAN SOLARIS X 是半导体和材料表征中最具挑战性的物理失效分析应用的平台,具有极高的精度和极高的效率。 它不但提供了纳米尺寸结构分析所必需的高分辨率和表面灵敏度,为大体积 3D 样品特性分析保证最佳条件。同时,它还提供非凡的 FIB 功能,可实现精确、无损的超大面积加工,包括封装技术和光电器件的横截面加工。
TESCAN SOLARIS X Xe Plasma FIB-SEM 主要优势:
突出特点
新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 镜筒可提供高达 2 μA 的超高离子束束流,并保持束斑质量,从而缩短铣削任务的总时间。
图(左):SiAlON - 石墨烯样品的三维重构图像,使用 In-Beam f-BSE 探测器逐层成像,该样品的 FIB-SEM 层析成像由 1339 层组成,重构的尺寸为 22×22.3×66.9 μm。
图(右):使用 Xe 等离子体 FIB 从 DRAM 65 nm节点上制备出的 80 nm 厚度的 TEM 样品,STEM-BF 高倍图像。
* 新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 镜筒具有无与伦比的视野,可实现极大面积的截面加工
新型 iFIB 镜筒具有等离子 FIB-SEM 市场中最大的视场(FoV)。在30 keV 下最大视场范围超过 1 mm,结合高离子束流带来的超高溅射速率,可在几个小时之内完成截面宽度达 1 mm 的电子封装技术和其他大体积(如 MEMS 和显示器)样品加工。这是简化复杂物理失效分析工作流程的最佳解决方案。
图:OLED 显示屏,横截面长度为 1086 μm,视野范围 1.26 mm
新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 离子束流强度可调范围大,可在一台机器中实现广泛的应用:大电流可实现快速铣削速率,适用于大体积样品去层;中等电流适用于大体积 FIB 断层扫描;低束流用于 TEM 薄片抛光;超低束流用于无损抛光和纳米加工。
快速、高效、高性能的气体注入系统(GIS)对于所有 FIB 应用都是必不可少的。新的 OptiGIS™ 具有所有这些品质,TESCAN SOLARIS X 可以配备多达 6 个 OptiGIS 单元,或者可选配一个在线多喷嘴 5-GIS 系统。此外,不同的专有气体化学品和经过验证的配方可用于封装技术的物理失效分析。
新型 iFIB+ 镜筒配有超稳定的高压电源和精确的压电驱动光阑,可在 FIB 预设值之间快速切换。此外,半自动束斑优化向导允许用户轻松选择最佳束斑,以优化特定应用的 FIB 铣削条件。
与 Ga 离子相比,Xe 离子的离子注入范围和相互作用体积明显更小,因此带来的非晶化损伤也更小,这在制备 TEM 样品薄片时尤其重要。此外,Xe 离子的惰性特性可防止研磨样品的原子形成金属化合物,这可能导致样品物理性质的变化,从而干扰电测量或其它分析。
由 TriSE™ 和 TriBE™ 组成的多探测器系统,可收集不同角度的 SE 和 BSE 信号,以获得样品的最大信息。
新一代 Triglav™ 镜筒内探测器系统经过优化,信号检测效率提高了三倍。此外,增加的能量过滤功能,可以对轴向 BSE 信号过滤采集。通过选择性地收集低能量轴向 BSE,实现用不同的衬度来增强表面灵敏度。
镜筒内探测器系统可实现快速图像采集,结合 Xe 等离子体 FIB 的高溅射速率,可实现 3D 微量分析的超快速数据采集。EDS 和 EBSD 数据可以在 FIB-SEM 断层扫描期间同时获得。使用专用软件进行后处理,可以获得 3D 重建,实现整个焊球、TSV、金属合金等样品的独特微观结构,成分和晶体学信息。
新一代 Triglav™ 还具有自适应束斑优化功能,可提高大束流下的分辨率。这有利于快速实现 EDS,WDS 和 EBSD 等分析技术。
Triglav™ SEM 镜筒结合新型肖特基 FE 枪,可实现高达 400 nA 的电子束流,并实现束流快速调整。In-Flight Beam Tracing™ 功能可以实现束流和束斑优化,满足微区分析的最佳条件。
得益于最佳的 60° 物镜的几何设计和大样品腔室,可实现对 6“ 和 8”晶圆任意位置的 SEM 和 FIB 分析。
新的 TESCAN Essence™ 软件平台是一个优秀的多用户界面软件,可以快速方便地访问主要功能。用户界面易于学习,并可实现用户定制,以最好地适应特定的应用程序和用户的技能水平以及使用习惯。各种软件模块,向导和流程使所有 FIB-SEM 应用程序都能为新手和专家用户提供轻松,流畅的体验,从而提高生产力并有助于提高实验室的效率。新的 TESCAN Essence™ 还提供先进的 DrawBeam™ 矢量扫描发生器,用于快速精确的 FIB 加工和电子束光刻。
* TESCAN SOLARIS X 是 S9000X 的升级机型。
用户单位
采购时间
采购数量
清华大学
2018/10/19
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泰思肯聚焦离子束TESCAN SOLARIS X的工作原理介绍
聚焦离子束TESCAN SOLARIS X的使用方法?
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聚焦离子束TESCAN SOLARIS X使用的注意事项?
泰思肯TESCAN SOLARIS X的说明书有吗?
泰思肯聚焦离子束TESCAN SOLARIS X的操作规程有吗?
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泰思肯TESCAN SOLARIS X有现货吗?
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企业名称
泰思肯贸易(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310000400602589
成立日期
2009-07-27
注册资本
100
经营范围
泰思肯(中国)有限公司
公司地址
闵行区联航路1688号旭辉国际10号楼
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