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离子注入机

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- 万元
共 29 台离子注入机
Quiin纳米级量子离子注入电镜

Quiin纳米级量子离子注入电镜

  • Quiin
  • 暂无
参考报价 ¥850万 - 1200万
离子注入机/ULVAC

离子注入机/ULVAC

  • IMX-350
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
中束流离子注入 法国IBS

中束流离子注入 法国IBS

  • IMC400
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入机/IMX-3500/ULVAC

离子注入机/IMX-3500/ULVAC

  • IMX-3500
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
中速流离子注入机/ULVAC

中速流离子注入机/ULVAC

  • SOPHI-400
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
离子注入机/IMX-3500/ULVAC

离子注入机/IMX-3500/ULVAC

  • IMX-3500
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
离子注入机/ULVAC

离子注入机/ULVAC

  • IMX-350
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®

离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®

  • Helium-S®
  • 暂无
参考报价 ¥400万 - 500万
量子材料/纳米级离子注入/离子注入机

量子材料/纳米级离子注入/离子注入机

  • MKW-ONE
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
量子科学/金刚石材料/中束流离子注入 法国IBS

量子科学/金刚石材料/中束流离子注入 法国IBS

  • IMC400
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入机/静电卡盘维修/AMAT/Varian & Axcelis

离子注入机/静电卡盘维修/AMAT/Varian & Axcelis

  • IMC-200
  • 暂无
参考报价 面议
中速流离子注入机/ULVAC

中速流离子注入机/ULVAC

  • SOPHI-400
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
纳米级离子注入/离子注入机

纳米级离子注入/离子注入机

  • MKW-ONE
  • 暂无
参考报价 ¥1200万 - 2000万
法国IBS SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400

法国IBS SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400

  • FLEXion 200/400
  • 暂无
参考报价 面议
法国IBS IMC210中束流离子注入

法国IBS IMC210中束流离子注入

  • IMC210
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入机

离子注入机

  • customized
  • 暂无
参考报价 面议
SiC用高温离子注入设备

SiC用高温离子注入设备

  • IH-860DSIC
  • 暂无
参考报价 面议
百及纳米ParcanNano单离子注入系统SII

百及纳米ParcanNano单离子注入系统SII

  • SII
  • 暂无
参考报价 面议
法国IBS IMC210中束流离子注入

法国IBS IMC210中束流离子注入

  • IMC210
  • 暂无
参考报价 面议
SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400

SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400

  • FLEXion 200/400
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入设备

离子注入设备

  • IMX-3500
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入设备

离子注入设备

  • SOPHI-400
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入设备

离子注入设备

  • SOPHI-30
  • 暂无
参考报价 面议
单离子注入聚焦离子束系统

单离子注入聚焦离子束系统

  • Q-One
  • 暂无
参考报价 面议
法国IBS SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400

法国IBS SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400

  • FLEXion 200/400
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入机/设备 / 法国IBS FLEXion 400-SiC

离子注入机/设备 / 法国IBS FLEXion 400-SiC

  • FLEXion 400-SiC
  • 暂无
参考报价 面议
离子注入机/静电卡盘维修/AMAT/Varian & Axcelis

离子注入机/静电卡盘维修/AMAT/Varian & Axcelis

  • IMC-200
  • 暂无
参考报价 面议

分类小贴士

离子注入机是一种半导体加工设备,通过将高能量的离子束注入材料表面,来改变材料的物理和化学性质。离子注入技术广泛应用于集成电路制造、太阳能电池制造等领域。 离子注入机的主要部件包括离子源、加速器、聚焦系统、磁场和真空室等组成部分。其中离子源产生离子束,加速器将离子束加速到高能量,聚焦系统将离子束聚焦并控制束流直径,磁场用于控制束流方向,真空室则是为了维持一个低于大气压的真空环境以避免离子束与空气分子的碰撞。 在离子注入过程中,被注入材料(通常是硅)被放置在注入室中,并通过自动控制的机械臂移动。当离子束打在材料表面时,其中的一些离子会被嵌入到材料中。这些注入的离子会改变材料的导电性、硬度、化学反应性等物理和化学特性。由此产生的附加材料性能为许多光电子器件和半导体器件所必需。由于离子注入技术的高精度和高可控性,它已成为现代半导体工业中的一项重要工艺。

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