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技术规格：Model 6020 型
曝光系统
曝光模式 真空接触 硬接触 软接触 渐近式接触（20μ）
分辨率 ≤ 20μ 2.0-3.0μ 3.0 - 5.0μ 5.0μm
先进的光束光学技术
光束尺寸：12" - 20" 方形
光源功率：1 Kw - 8 Kw
均匀功性率：优于±3 至 5%
相机：400 万像素双CCD
校准系统
模式识别：OAI 的增强模式识别软件
对齐精度：.5μtopside 和 1.0μ with top to bottom optionalbackside
自动对齐：顶部到底部
顶部
晶圆处理
基板尺寸：12"----20"
掩膜尺寸：14"----24"
基板厚度：可达到1 mm薄片
可达到5000μm
卡盘：可定制卡盘（选项）
跳楔动形补效偿应：找平
可用选项
红外自动对焦、
全光刻 SECS/Gem 软件的集成光刻机群
非接触式找平
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 天津大学 | 2023-05-17 |
产品货期: 7天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
安装调试时间: 到货后7天内
电话支持响应时间: 2小时内
是否提供维保合同: 是
维修响应时间: 1天内
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