SEM/TEM扫描电镜/透射电镜等离子清洗机/去胶机

美国MICOR专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。

专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。

特点：

1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化

2. 13.56MHz高频射频发生器

3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作

4. 标配75W版本，可选150W版本

5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入

6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器

7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)

技术参数：

1、控制系统

1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。

2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤

2、反应腔体

1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱。

2）腔体尺寸：内径110毫米，外径120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。

3）前观测窗：前方开口，5毫米厚石英玻璃可视窗口，可观测内腔等离子状态，并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置，有效保护操作的安全性；

3、射频电源

1）射频频率：13.56MHz

2）射频功率：标配0~75W；可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调，自动阻抗匹配。

3）射频输出可以工作在脉冲方式，脉冲比可以从1/255调到255/255（连续输出）。

4、等离子源

1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。

2）电阻耦合电离方式。

3）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。

5、气体控制

1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC；

2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量；

3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。

4）自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。

5）高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。

6）6mm气体接口。

6、真空系统

1）KF25法兰接口用来连接真空泵。

2）真空要求：抽速：>1.7m3/h；

3）最低气压：<=200mTorr.