稳定性分析仪
稳定性分析仪

¥40万 - 120万

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LUM

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LUMiFrac

--

欧洲

  • 白金
  • 第11年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产地类别: 进口

产品信息:LUMiFrac®

 

产品名称:粘附力分析仪

 

产品型号:LUMiFrac


产品介绍:

LUMiFrac是测定胶粘剂拉伸强度的新基准(获得柏林勃兰登堡2012创新奖)。它利用离心力在同一时间对样品施加多倍重力,从而获得粘结强度、拉伸强度,同时还有剪切强度的绝对物理值(N/mm2).

 

LUMiFrac通过一个递增的离心力直接施加到被测试的试样。它在高转速下测试样品断裂瞬间的力,所有的数据被发送到知名的SEPView操作软件,该软件可自动计算并显示实时临界力/断裂失效力。此外,它可以同时分析多达8个样品,比较和计算统计,并得出结论。而作为断裂测试的相关数据,也会考虑在内。测试样品定位,像标记1-2-3一样简单,但是对样品进行特殊的预防措施是必要的。只需将8个样本放到标记的转子位置,然后就可以开始了。

 

采用多重采样法同时分析这8个样品而得到的测试结果的准确性较好,并且还减少了85%的测量时间。整个发展从一个简单省时的粘合性能的测定想法开始,到取得了多项测试技术,到现在附着力测试、复合材料分析新技术的开始(甚至可以使用多层膜来测试),一系列过程使它在很多领域具有很好的发展前景。

 

LUMiFrac是研究和质量控制工具,专为胶粘剂配方和表面处理行业而准备;漆涂料,联合木制品,汽车和飞机工业,胶带复合材料、多层铝箔包装或金属薄膜塑料光学基板,如眼镜、镜子等。

 

不同的测试基座可覆盖足够多的材料组合,应用范围广泛,能得出准确而重复性好的数据。

 

LUMiFrac – 粘接力[]内构强度的测试标准。

 

原理

 

CATT™ 一种新的多样本绝对测量技术

 

为了材料测试,我们开发了离心粘附力测试技术(CATT),为测试复合材料的粘结强度和内聚强度。

 

全新的CATT技术的原理(离心粘附力测试技术)是巧妙而简单的。施加离心力到8个样品上,离心力的增加由转子转速的变化编程控制。如果施加的负荷超过了样品的核载,抗拉强度试验(TST)时,组件导向套即发生脱落。TST的脱离(在破裂瞬间)是自动检测的,破裂处的位置编码、转子速度和破裂的时间则以红外信号的形式发送至传感器。在抗拉强度测试时,无论是粘结强度和内聚强度,SEPView软件都将计算和显示出测试结果。


优势

 

待测样品准备简单

可同时测8个样品

无需固定样品 - 放入仪器即可开始

测试速度可调节

可变实验负荷力

宽负荷力范围(0.1N 到 6500N)

测定试验样品的拉伸强度和剪切强度

各种温度下的测试

可多次使用的实验基座,节约成本

符合ISO 4624DIN EN 15870


产品规格

 

转子转速/负载范围

100–13,000   rpm; 0.1 N – 6.5 kN

抗拉强度

高达80 MPa

测量时间

1分钟到99小时;或根据任务和目标

符合标准

ISO   4624; JIS K 5600-5-7; DIN EN 15870; DIN EN 14869-2

样品数

最多同时8个样品

最大样品尺寸

30   x 30 x > 1 mm3

粘接面积

直径7毫米,10毫米或定制

测试粘结面材料

金属和非金属

测试粘结面重量

4.1- 38.7克(瓦特/铜约58克)

重量

56   kg

温度控制

-11°C    + 40°C

数据接口

USB

尺寸 (WxHxD)

380   x 296 x 640 mm3

电源

100   V / 120 V / 230 V, 50/60 Hz

功率

max.   1050 W

 


  • 在CMP工艺中,对于Slurry而言,影响其抛光效率的因素有:Slurry的化学成分、浓度;磨粒的种类、大小、形状和浓度;Slurry的黏度、pH值、流速、流动途径等。 Slurry的磨料粒子通常为纳米或亚微米级别,粒径越小,表面积越大,表面能越大(或表面张力越大),越易团聚,而团聚而成的大颗粒会在晶圆表面产生划痕缺陷,直接影响产品良率。抛光液平均粒径越小,则对稳定性的控制挑战越大。

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  • CMP Slurry 均一性的一体化解决方案。

    电子/电气 2023-02-01

  • 化学机械抛光,是半导体制造过程中最重要的环节之一。CMP抛光浆料(Chemical Mechanical Slurry),又称CMP浆料、抛光液、研磨液、研磨料,是CMP工艺的3大关键要素之一,其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平。

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  • MLCC陶瓷浆料作为MLCC生产的重要环节,浆料的稳定性和均一性影响着后续流延工艺和印刷工艺的效果,浆料如果易沉淀和易团聚,陶瓷介质的紧密型和稳定性将会受到影响;陶瓷浆料中陶瓷粉体的粒径会影响介质层的厚度,陶瓷粉体粒径过大不利于MLCC薄层化和小型化,此外还会影响MLCC产品的烧结性能、介电常数、介质损耗,温度特性及容量等多方面;陶瓷粉体的外貌形态也会影响MLCC的性能,因此在分散过程中,需尽可能减少陶瓷粉体的损伤

    电子/电气 2023-02-23

  • 脂质体的粒径直接影响药物的释放、生物利用度、载药量、靶向性等,在制备时应控制粒子的大小,获得较窄且均匀的粒度分布。

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  • 乳佐制备及表征一体化解决方案。

    制药/生物制药 2023-02-07

  • 奥法美嘉平台提供整套的光刻胶用色浆均一性与稳定性解决方案,可用于快速评估、优化光刻胶色浆的配方和工艺:砂(珠)磨机对色浆进行研磨分散处理,高压微射流均质机对色浆浆料进行分散均质处理、Nicomp粒度分析仪分析平均粒径、AccuSizer颗粒计数器分析大粒子浓度,Lum稳定性分析仪快速分析色浆稳定性,Entegris-ANOW滤芯过滤杂质及大颗粒。

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  • 在CMP工艺中,对于Slurry而言,影响其抛光效率的因素有:Slurry的化学成分、浓度;磨粒的种类、大小、形状和浓度;Slurry的黏度、pH值、流速、流动途径等。 Slurry的磨料粒子通常为纳米或亚微米级别,粒径越小,表面积越大,表面能越大(或表面张力越大),越易团聚,而团聚而成的大颗粒会在晶圆表面产生划痕缺陷,直接影响产品良率。抛光液平均粒径越小,则对稳定性的控制挑战越大。

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  • 化学机械抛光,是半导体制造过程中最重要的环节之一。CMP抛光浆料(Chemical Mechanical Slurry),又称CMP浆料、抛光液、研磨液、研磨料,是CMP工艺的3大关键要素之一,其性能和相互匹配决定CMP能达到的表面平整水平。

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  • MLCC陶瓷浆料作为MLCC生产的重要环节,浆料的稳定性和均一性影响着后续流延工艺和印刷工艺的效果,浆料如果易沉淀和易团聚,陶瓷介质的紧密型和稳定性将会受到影响;陶瓷浆料中陶瓷粉体的粒径会影响介质层的厚度,陶瓷粉体粒径过大不利于MLCC薄层化和小型化,此外还会影响MLCC产品的烧结性能、介电常数、介质损耗,温度特性及容量等多方面;陶瓷粉体的外貌形态也会影响MLCC的性能,因此在分散过程中,需尽可能减少陶瓷粉体的损伤

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    石油/化工 2023-07-06

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 不限人数上门培训一次

免费仪器保养:

保内维修承诺: 免费更换零配件

报修承诺: 48小时到达现场

  • 用于生产瓶装软饮料的调味乳液必须由均匀大小的液滴组成,这些液滴应足够小以防止结块或奥斯瓦尔德熟化,这两种情况都会导致乳液“破裂”并在瓶内形成化妆品上不理想的“颈环”。由于导致颈环的过程是渐进的,因此可以在早期发现。

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    157MB 2021-04-30
  • 这项工作的中心目标是获得稳定的纳米复合物,用于胰岛素的输送。聚电解质纳米复合材料很少能保持稳定状态,并且经常发生聚集。通过钙离子诱导和聚电解质间的静电相互作用,制备了由海藻酸钠、硫酸葡聚糖、聚乙二醇4000、泊洛沙姆188、壳聚糖(CS)和牛血清白蛋白组成的胰岛素口服纳米复合物。壳聚糖对于纳米复合材料的最终尺寸至关重要,并且存在最适含量,可以合成400-600 nm尺寸的纳米复合材料。

    242MB 2021-04-28
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LUM激光光散射仪LUMiFrac的工作原理介绍

激光光散射仪LUMiFrac的使用方法?

LUMLUMiFrac多少钱一台?

激光光散射仪LUMiFrac可以检测什么?

激光光散射仪LUMiFrac使用的注意事项?

LUMLUMiFrac的说明书有吗?

LUM激光光散射仪LUMiFrac的操作规程有吗?

LUM激光光散射仪LUMiFrac报价含票含运吗?

LUMLUMiFrac有现货吗?

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