ThinCorr镀层孔隙率测量系统

ThinCorr镀层孔隙率测量系统

——大部件样品局部分析

仪器简介——

意大利AMEL公司针对对大部件且无法切割的样品，最新推出使用电化学方法，应用于样品局部测量系统。

特征：系统配套微型化电解池（EC Minicell），此设计目的用于表面电化学特征研究，并可用于现场的电化学检测。特殊θ玻璃毛细管应用于工作电极的表面积（μm²级别计算），为了研究单个颗粒或颗粒的特性。微型电解池中的电解液通过微型泵实现在工作电极附近流动，避免浓度梯度和相应极化；内部包括多个通道，可以与内置的参比和对电极更好接触。当压在金属表面上，喷嘴上的垫圈确定工作电极的表面积。

微型化电解池利用光聚合性树脂（其他材料：金属或合金，陶瓷）进行激光立体光刻制造，工作区域是用直径为毫米的圆形垫圈隔离，内置Ag/AgCl参比电极和Pt对电极。

EC Minicell视图：1）参比和对电极的电缆线，2）辅助端口，3）电解液出口，4）电解液入口，5）带垫片的喷嘴

案例一：

使用ThinCorr系统对不锈钢AISI 316进行局部测量，测量方法循环伏安cyclic voltammetry (10 mV.s^-1)，表面积为：1.772 mm²，1M H2SO4作为电解液在不同的流速下(0, 18, 30 and 42 ml/s)进行测量。

案例二：

根据ISO 2177中计时库仑coulometric方法，进行铁的电镀锌层厚度测量，100 g/l 的氯化钾水溶液作为电解液，工作电极表面积为1.54 mm2, 在流速10 ml/s下施加电流3mA（98 s电压变化），测量结果：t_Zn = 9.2μm（XRF测量结果为9.5μm），施加电流2mA（151 s电压变化）得到相似的结果t_Zn = 9.3μm。

案例三：

使用EC Minicell对复杂形状样品进行局部测量，样品为铝合金的微波谐振腔进行OCP测量，目的检测银镀层中的孔隙率。

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