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美国SVT公司的RF等离子源适用于多个公司多种型号。
法兰接口包括： 2.75''、4.5''、6''。
等离子源用于离解双原子氮、氧和氢。离解过程中不会产生高能离子。
产生的束流含有零离子，有助于生长高质量的薄膜，也可以在不损伤衬底表面的情况下清洗衬底。
高生长率等离子体源能够在生长速率大于4μm/hr的情况下生长高质量的薄膜。
光阑和等离子腔形状可以顾客定制，以满足客户对不同流量的需求。
软件作为可选项，能够实现自动操作，允许用户保存数据，编写工艺程序。
特点
可提供N2、O2、H2等离子源
生长速率大于4μm/hr
源设计有等离子体观察窗口
光阑和等离子腔形状可以客户定制
RF自动调节可选
RF 功率 | 200-600W |
气体流量 | 0.1-10SCCM |
法兰 | 4.50’’ CF |
源直径 | 2.35’’ |
水冷却 | 0.17GPM 流量(0.227m3/hr) |
RF匹配网络 | 手动调节(自动调节可选) |
等离子腔 | PBN，氧化铝，石英 |
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