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解决方案

SiC元件量产的离子注入

应用领域

电子/电气

检测样品

检测项目

离子注入
针对SiC材料以及元件的离子注入,涉及:高温炉、快速退火设备、高能离子注入等设备;与硅晶圆相比,SiC晶圆容易因离子注入而产生结晶缺陷,注入离子时需要将晶圆温度维持在500℃的高温,在控制结晶缺陷产生的同时,注入离子。

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SiC元件量产的离子注入设备 IH-860DSIC

IH-860DSIC

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