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Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备

产品详情

Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备

Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备
参考报价:
 面议
型号:
 Quantum X
品牌:
 --
产地:
 德国
样本:  【暂无】 信息完整度:  
典型用户:  0
价格区间:
 
组件类别:
 其他
分享:
400-860-5168转4252
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名 称: nanoscribe
认 证: 工商信息已核实
信用积分:900
纳糯三维科技产品分类
纳糯三维科技手机版
产品简介

基于双光子灰度光刻原理无掩模微纳3D打印

- 适合于制造微光学衍射以及折射元件


Quantum X新型超高速无掩模光刻技术的核心是Nanoscribe独家专利的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。


Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点

这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精准同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。


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技术参数

产地:德国全进口

打印技术:双光子灰度光刻 (2GL)

三维横向特征尺度:160nm

最佳分辨率:400nm

最小表面粗糙度:≤10nm

激光扫描速度:≤250mm/s


关键特性

    高速的2.5维微纳制造
    光学质量表面和极好的形状精度
    亚微米级别加工满足设计自由
    超快调整控制打印体素大小,优化打印过程
    自动化的打印流程,例如校正、打印和实时
    监控 广泛的基板-树脂组合选择
    按任务顺序连续进行打印
    可触摸屏和远程电脑操控


纳糯三维科技(上海)有限公司作为德国Nanoscribe独资子公司扩大了亚太地区业务范围,同时也加强了售后服务支持。

Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备信息由nanoscribe为您提供,如您想了解更多关于Nanoscribe超高速双光子灰度光刻技术微纳3D打印设备报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

售后服务
  • 免费上门安装:否
  • 保修期:1年
  • 是否可延长保修期:否
  • 保内维修承诺:保修
  • 报修承诺:支持及时线上咨询
  • 免费仪器保养:保养
  • 免费培训:免费装机培训
  • 现场技术咨询:有
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400-860-5168
分机号:4252
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展位地址:https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104252/