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产品用途：
此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控
生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。
产品组成：
CVD系统配置：
1.1200度开启式真空管式炉（可选配多温区）。
2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配有风冷系统。
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。
2 气路快速连接法兰结构采用本公司设计,提高操作便捷性。
3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵，防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。
4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动，等程序完成，炉体按设定的速度滑动，因有滑动限位功能炉体不会发生碰撞，待样品露出炉体后，通过风冷系统快速降温。
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企业名称
天津中环电炉股份有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
120113000025275
成立日期
1998-10-15
注册资本
200
经营范围
实验电炉、实验室仪器制造;实验室分析仪器制造;工业电炉;机械设备;电气、仪器设备维修;机械加工;机电产品;钢材经营;玻璃仪器;五金交电批发零售;钢材销售;软件开发;技术推广服务;从事国家法律、法规允许经营的进出口业务;开关柜、电器开关、防雷产品、应急电源柜设备制造;机电设备安装;电气火灾监控系统设备生产、销售;计算机、软硬件的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让;操作系统软件及应用软件的销售。(以上经营范围涉及行业许可的凭许可证件,在有效期限内经营,国家有专项专营规定的按规定办理)(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
天津中环电炉股份有限公司
公司地址
天津市北辰经济开发区双川道11号
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