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大口径射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.
KRi 射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源 RFICP 380 技术规格:
阳极 | 电感耦合等离子体 |
最大阳极功率 | >1kW |
最大离子束流 | > 1000mA |
电压范围 | 100-1500V |
离子束动能 | 100-1200eV |
气体 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-50sccm |
压力 | < 0.5mTorr |
离子光学, 自对准 | OptiBeamTM |
离子束栅极 | 38cm Φ |
栅极材质 | 钼 |
离子束流形状 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 38.1 cm |
直径 | 58.2 cm |
锁紧安装法兰 | 12”CF |
射频离子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.
作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!
若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士
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考夫曼镀膜机大面积射频离子源 RFICP 380的工作原理介绍
镀膜机大面积射频离子源 RFICP 380的使用方法?
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KRI 离子源应用于舞台灯光滤光片镀膜
舞台灯光虽然呈现是五颜六色的, 但光源一般都是白色. 通过在光源前加上特定的光学滤光片, 对光进行“加工”, 反射和透过特定的波段, 来达到不同的色彩变化. 加上颜色滤光片, 让不同颜色的镜片不停切换, 产生不同颜色. 而在光学元件或独立基板上, 镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合, 即光学薄膜, 可以改变光波之传递特性, 包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变. 上海伯东美国进口KRI离子源辅助国产镀膜设备镀制舞台灯光滤光片, 透亮且温漂小, 满足客户降低生产成本、提高产品质量的需求, 为国内镀膜厂家进行工艺升级提供新方向！
机械设备
2024/01/03
上海伯东 KRI 离子源用于镀制1064nm窄带滤光片激光膜
1064nm 窄带滤光片是在各类玻璃材质表面通过特殊的镀膜工艺而形成的光学元件, 可以从入射光中选取任意所需求的波长, 半峰值一般在 5nm~50nm之间, 具有波长定位准确、透过高、截止深、温漂小、耐用性好、光洁度好的特点, 是激光设备应用中常见的滤光片解决方案. 上海伯东美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380辅助沉积镀制1064nm窄带滤光片, 沉积过程稳定, 加以合理的膜系设计, 可以很好地镀制出透过率高、截止宽度宽、温度漂移小、膜层致密度高、使用寿命长的产品.
机械设备
2023/12/13
企业名称
伯东企业（上海）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310115400032917
成立日期
1995-12-01
注册资本
800
经营范围
伯东企业（上海）有限公司
公司地址
上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
客服电话
公司名称： 伯东企业（上海）有限公司
公司地址： 上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 联系人： 罗小姐 邮编： 200131 联系电话： 400-860-5168转0727
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