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原子层沉积系统(ALD) R-200 Advanced

品牌: Picosun
产地: 芬兰
型号: R-200 Advanced
样本: 下载
报价: ¥100万 - 200万

核心参数

产地类别: 进口

衬底尺寸: 50 – 200 mm /单片

工艺温度: 50 – 500 °C, 450 °C(加等离子)

前驱体数: 6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上plasma管路共7根独立源管线)

重量: 350kg

尺寸(W x H x D): 146 cm x 146 cm x 84 cm(小)

均匀性: >99%

产品介绍

PICOSUN® R-200高级型ALD系统适用于数十种应用领域的研发,如IC组件、MEMS器件、显示器、LEDs、激光器,以及3D物品,如透镜、光学器件、首饰、硬币和医用植入物。


底尺寸和类型


50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

3D 复杂表面衬底(使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳)

粉末与颗粒(配备扩散增强器)

多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品

工艺温度

50 – 500 °C, 450 °C(加等离子)

基片传送选件

气动升降(手动装载)

预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )

前驱体

液态、固态、气态、臭氧源、等离子体

6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上plasma管路共7根独立源管线

重量

350kg

尺寸( W x H x D))

146 cm x 146 cm x 84 cm(小)

189 cm x 206 cm x 111 cm(大)

选件

PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集

成(用于惰性气体下装载)。

工艺

Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,AlN, TiN,金属如Pt或Ir



售后服务
产品货期: 90天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
维修响应时间: 2天内
工商信息

企业名称

北京正通远恒科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

110105001988017

成立日期

2001-03-09

注册资本

30

经营范围

科技产品的技术开发、技术培训、技术服务、技术咨询;信息咨询(不含中介服务);市场调研;财务咨询;零售仪器仪表、机械设备、电器设备、化工产品(不含一类易制毒化学品)、建筑材料、五金交电、计算机及配件、百货;承办展览展示;组织文化艺术交流。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)

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北京正通远恒科技有限公司为您提供Picosun原子层沉积系统(ALD) R-200 Advanced,PicosunR-200 Advanced产地为芬兰,属于进口原子层沉积设备,除了原子层沉积系统(ALD) R-200 Advanced的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,北京正通远恒客服电话400-860-5168转0338,售前、售后均可联系。
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