X荧光能谱法同时测定工业硅中铁铝钙

近几年来，随着国内科技产业的不断升级，对微电子器件的需求日益增加。特别是高科技产品的快速发展，比如智能手机、电脑、无人机、新能源汽车、智能机器人等，对高性能微电子器件的需求更是呈指数级增长，这使得微电子器件自然而然就成为人们研究的热点材料。在微电子器件的研究中，通常需要对微电子器件表面进行各种加工、改性处理，来使其具有不同的性能。由于X射线光电子能谱仪（XPS）是一种表面分析技术，随着商业化XPS设备的普及，其在微电子器件研究中的应用越来越广泛，逐渐成为微电子器件研究中不可或缺的分析手段。 本方案通过赛默飞最新一代XPS表面分析平台Nexsa G2，对半导体器件表面形成的窄条形SnOx成分进行小束斑+特色SnapMap快照成像测试，展示如何通过设备小束斑+成像功能，快速全面分析这类特殊小尺寸半导体器件表面成分及其在面内分布情况，来辅助评估表面处理效果及器件质量。

XPS一般用于分析材料表面、薄膜材料和一些界面材料的元素信息。该技术无需外部校准便可得到量化的结果，很少需要或无需样品制备。XPS 的应用十分广泛，包含教学研究、工业研发和第三方实验室的质量监测和控制等等。

X射线衍射是用于医药产品结构和物相表征的金标准。是药物发现到预配制、配方，再到稳定性、质量控制等一系列过程中常见的表征技术。在研究原料药的固体剂型、结晶度和生物利用度等方向都有具体的应用。 具体的说，XRD通常会被应用于特定原料药的多晶型、盐和共晶的研究。此外，XRD还用于跟踪产品的结晶过程，用于测定最终产品的结晶度、配方的稳定性以及在受控环境下的反应活性。 根据应用范围和测量需求，应当选用不同类型的XRD仪器和配置。例如：在QA/QC实验室中，台式XRD仪器将是多晶型和盐筛选问题最经济有效的解决方案，并且可以用于确定物质的结晶度；而立式高分辨率XRD则更加适用于药物的广泛研究。

X射线荧光光谱仪能够用于定量分析，对于无限厚的样品来说，所测量的元素特征谱线的强度与样品中该元素的浓度成正比，但是对于非无限厚的样品如镀层样品来说，测量的谱线强度不仅与元素浓度有关，而且还与样品的厚度有关。而对于组成单一或恒定的镀层样品来说，测量得到的X射线强度只与镀层的厚度有关。 对于镀锌板来说，其镀层为纯的金属锌。因此，可以用测得的Zn特征谱线强度与镀层的厚度建立对应关系。