产地类别: 进口
衬底尺寸: 4
工艺温度: 350
前驱体数: 2
重量: 50
尺寸(W x H x D): 582 x 450 x 410mm
均匀性: 3%
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SAL-1000 ALD原子层沉积系统
SAL-1000Series是由日本AGUS生产的桌面型ALD原子层沉积设备,可搭载2路前驱体。适用于4英寸(φ 100mm)基片的沉积,并可搭载粉末样品架和手套箱。
SAL-1000Sseries原子层沉积设备具备如下特点:
1.良好的成膜性能,膜厚均匀性高,≤3%
· 对于内孔、凹槽与高深宽比结构具有良好的沉积均匀性;
· 膜厚可准确控制达一个原子层;
· 大面积制程可达到无孔洞薄膜(Pin Hole free)
· 极高的重复性及稳定性
· 材料缺陷密度低
· 可成长非晶型或结晶薄膜(选择温度)
2.优异的真空性能,真空度≤5Pa
3.触控操作,简单易用;
·触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程,并检查每个驱动系统的运动。
·可进行自动沉积,并在沉积完成后自动完成N2排放。
·手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。
4.配件丰富,可满足多种试验需求:
基底旋转架、粉末样品配件、手套箱、臭氧发生器、尾气处理设备、200℃前驱体的加热器,干式真空泵等;
粉末沉积配件:倾斜框架可调整的角度为0 ~ 45°,更便于粉末成膜。单次可对5cm3的粉体进行表面沉积;
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 安装培训不限人数
免费仪器保养: 保修期内,1次/年
保内维修承诺: 非耗材保修期内免费更换
报修承诺: 24小时内反馈,72小时内提出解决方案
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原子层沉积SAL1000Series的使用方法?
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AGUSSAL1000Series有现货吗?
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